スパッタリングプロセスにおけるN<sub>2</sub>圧力の変化によって表れるCrN薄膜の構造特性,形態特性および腐食特性の変化

WONGTANASARASIN Wichuda; SAKDANUPHAB Rachsak; SUWANSUKHO Kajpanya; SAKULKALAVEK Aparporn

文献

J-GLOBAL ID：201502218668653842 整理番号：15A1145244

スパッタリングプロセスにおけるN₂圧力の変化によって表れるCrN薄膜の構造特性,形態特性および腐食特性の変化

Changes in structural, morphological, and corrosion properties of CrN thin film effected by varying N₂ pressure in the sputtering process

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資料名：
巻： 659 ページ： 555-559 発行年： 2015年
JST資料番号： D0744C ISSN： 1013-9826 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：スイス (CHE) 言語：英語 (EN)

タイの重要産業であるパイナップル製品製造設備における機器腐食に対処する方法としてCrN薄膜による耐食性および力学特性の強化がある。分圧4.0×10^-4~2.0×10^-3の窒素を含有する全圧4.0×10^-3のアルゴン雰囲気でCrをターゲットとするマグネトロンスパッタリングによってAISI304ステンレス鋼表面に厚さ5μmのCrN薄膜を成長させた。X線回折,走査電子顕微鏡法,エネルギー分散X線分光法,Vickers硬度測定および電気化学測定によってCrN薄膜をキャラクタリゼーションした。CrN薄膜は(200)優先配向の面心立方構造を有し,Cr₂Nを含み,窒素分圧1.2×10^-3で調製したとき最大の耐食性を示した。

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固-液界面 , 塩

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スパッタリングプロセスにおけるN2圧力の変化によって表れるCrN薄膜の構造特性,形態特性および腐食特性の変化

スパッタリングプロセスにおけるN₂圧力の変化によって表れるCrN薄膜の構造特性,形態特性および腐食特性の変化