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J-GLOBAL ID：201502219736484333   整理番号：15A1187280

透過モードにおける超コンパクトビーム操作のための高効率全誘電体メタ表面

High-Efficiency All-Dielectric Metasurfaces for Ultracompact Beam Manipulation in Transmission Mode

著者 (6件)： SHALAEV Mikhail I. (State Univ. New York, New York, USA) ,  SUN Jingbo (State Univ. New York, New York, USA) ,  TSUKERNIK Alexander (Univ. Toronto, ON, CAN) ,  PANDEY Apra (CST, Inc., California, USA) ,  NIKOLSKIY Kirill (M.V. Lomonosov Moscow State Univ., Moscow, RUS) ,  LITCHINITSER Natalia M. (State Univ. New York, New York, USA)
資料名： Nano Letters  (Nano Letters)
巻： 15  号： 9  ページ： 6261-6266  発行年： 2015年09月 
JST資料番号： W1332A  ISSN： 1530-6984  CODEN： NALEFD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 石英ガラス上に多結晶ケイ素(pSi)膜をスパッタリング成長し,電子ビームリソグラフィとRIEによりpSiナノブロックの格子状の配列を形成し,プラズモニックなメタ表面とは異なり,pSiナノブロック配列構造が高透過,低損失,及びCMOS技術に適合するメタ表面を与えることを示した。格子状配列におけるナノブロックのサイズ制御による透過光(1.55μm)位相の制御を示し,さらにサイズの異なるナノブロック配列を組み合わせて透過光を偏向する例と,軌道角運動量を伴う光ビームに変換する光渦変換器の例を示した。これらの結果はチップ上の全光学回路の実現のための多様なプラットホームとしてのケイ素メタ表面の可能性を示している。

シソーラス用語： ポリシリコン ,  ナノ構造 ,  配列 ,  RIE【エッチング】 ,  *光学材料 ,  光 ,  依存性 ,  *位相制御 ,  *光偏向 ,  *渦 ,  電子技術 ,  *誘電体
準シソーラス用語： CMOS技術 ,  サイズ依存性 ,  ナノキューブ ,  *メタ表面 ,  *光渦 ,  多結晶シリコン

分類 (2件)： その他の光伝送素子  (BD06040S) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 透過 ,  コンパクト ,  ビーム ,  高効率 ,  誘電体 ,  メタ表面