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J-GLOBAL ID：201502219778625157   整理番号：15A0530265

異なる表面トポグラフィーのシラン化シリコンウエハ上の準静的接触角の傾斜板測定の過程での高精度液滴形状解析(HPDSA):接触角力学への表面粗度の影響

High-precision drop shape analysis (HPDSA) of quasistatic contact angles on silanized silicon wafers with different surface topographies during inclining-plate measurements: Influence of the surface roughness on the contact line dynamics

著者 (8件)： HEIB F. (Dep. of Physical Chemistry, Saarland Univ., 66123 Saarbruecken, DEU) ,  HEMPELMANN R. (Dep. of Physical Chemistry, Saarland Univ., 66123 Saarbruecken, DEU) ,  MUNIEF W.M. (Dep. of Informatics and Microsystem Technol., Univ. of Applied Sciences, Kaiserslautern, 66482 Zweibruecken, DEU) ,  INGEBRANDT S. (Dep. of Informatics and Microsystem Technol., Univ. of Applied Sciences, Kaiserslautern, 66482 Zweibruecken, DEU) ,  FUG F. (Dep. of Adhesion and Interphases in Polymers, Saarland Univ., 66123 Saarbruecken, DEU) ,  POSSART W. (Dep. of Adhesion and Interphases in Polymers, Saarland Univ., 66123 Saarbruecken, DEU) ,  GROSS K. (Dep. of Physical Chemistry, Saarland Univ., 66123 Saarbruecken, DEU) ,  SCHMITT M. (Dep. of Physical Chemistry, Saarland Univ., 66123 Saarbruecken, DEU)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 342  ページ： 11-25  発行年： 2015年07月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固体表面の接触角と濡れは表面の物理的及び化学的性質によって大きく影響される。これらの影響量は接触角測定が前進角θ_aと後退角θ_rを測定するだけで行われる時には互いに区別困難である。この観点で,2種の異なる物理的表面トポグラフィーを有する疎水性改質シラン化シリコンウエハについて時間依存水接触角を測定した。第1の表面はほぼ原子的に平坦で,一方,第2の表面はフォトリソグラフィーとエッチング手続きによって合成された(平坦とナノスケール粗パターンが交代する)パターン化表面である。異なる表面トポグラフィーを原子間力顕微鏡(AFM),Fourier変換赤外反射吸収分光(FIIRRAS),Fourier変換赤外減衰全反射分光(FTIR-ATR)によって特性評価した。高精度液滴形状解析アプローチによって得られた接触角データの組は更にGompertzianフィッティング手続きと3重線速度に依存する統計的計数手続きによって解析された。Gompertzianフィットは表面の全体的性質と前縁と後縁での液滴の運動の間の依存性を解析するのに用いられた。統計的計数手続きは傾斜角φ,接触角θ,3重線速度vel,第1境界点X_B,10に相対的な3重線の被覆距離disに対する期待値E(p)と標準偏差σ(p)の計算をもたらす。かくして,試料表面の傾斜の過程での静止液滴がビデオ記録され,3重線運動の加速/減速に依存する異なる特定接触角事象が解析される。これらの手続きは表面の性質に依存する密度分布を特性的にもたらす。用いた手続きは接触角についての影響を更に詳細に研究する可能性に導く。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *トポグラフィー【形態】 ,  *ウエハ【IC】 ,  *ケイ素 ,  *接触角 ,  *液滴 ,  *濡れ ,  *斜板 ,  *疎水性 ,  表面性状 ,  フォトリソグラフィー ,  エッチング ,  パターン形成 ,  *ヒステリシス ,  統計解析
準シソーラス用語： 形状解析

分類 (3件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  膜流,液滴,気泡,キャビテーション  (BC02070U)

タイトルに関連する用語 (10件)： 表面トポグラフィー ,  シラン ,  シリコンウエハ ,  接触角 ,  傾斜板 ,  過程 ,  液滴 ,  形状解析 ,  力学 ,  表面粗度