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J-GLOBAL ID：201502220390772262   整理番号：15A1079246

改良型パルスレーザ蒸着法による5インチ直径Siウエハ上のBi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂強誘電体薄膜の蒸着

Deposition of Bi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂ ferroelectric thin films on 5-inch diameter Si wafers by a modified pulsed laser deposition method

著者 (12件)： LI S. (Key Lab. of Low Dimensional Materials and Application Technol. of Ministry of Education, Xiangtan Univ., Hunan ...) ,  LI S. (School of Materials Sci. and Engineering, Xiangtan Univ., Hunan, Xiangtan 411105, CHN) ,  ZHONG X.L. (Key Lab. of Low Dimensional Materials and Application Technol. of Ministry of Education, Xiangtan Univ., Hunan ...) ,  ZHONG X.L. (School of Materials Sci. and Engineering, Xiangtan Univ., Hunan, Xiangtan 411105, CHN) ,  JIA Y.R. (Key Lab. of Low Dimensional Materials and Application Technol. of Ministry of Education, Xiangtan Univ., Hunan ...) ,  WANG J.B. (Key Lab. of Low Dimensional Materials and Application Technol. of Ministry of Education, Xiangtan Univ., Hunan ...) ,  WANG J.B. (School of Materials Sci. and Engineering, Xiangtan Univ., Hunan, Xiangtan 411105, CHN) ,  LI B. (Key Lab. of Low Dimensional Materials and Application Technol. of Ministry of Education, Xiangtan Univ., Hunan ...) ,  LI B. (School of Materials Sci. and Engineering, Xiangtan Univ., Hunan, Xiangtan 411105, CHN) ,  TAN C.B. (Key Lab. of Low Dimensional Materials and Application Technol. of Ministry of Education, Xiangtan Univ., Hunan ...) ,  TAN C.B. (School of Materials Sci. and Engineering, Xiangtan Univ., Hunan, Xiangtan 411105, CHN) ,  ZHOU Y.C. (Key Lab. of Low Dimensional Materials and Application Technol. of Ministry of Education, Xiangtan Univ., Hunan ...)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 591  号： PA  ページ： 126-130  発行年： 2015年09月30日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2つのレーザ走査速度と6インチ直径ターゲットを持つ改良型パルスレーザ蒸着法により,Siウエハ上に5インチ直径Bi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂(BNT)強誘電体薄膜を作成した。膜厚分布についての研究から,大径ターゲットとともにレーザ走査技術を用いることにより,膜厚の均一性を改善できることを明らかにした。特に,大径ターゲットの周辺部をアブレーションするレーザ走査速度を合理的に設定することは,厚さ分布のエッジ偏差を弱くすることに顕著な効果をもたらす。そのような現象を,ターゲット上のレーザ光のアブレーション追跡に対するシミュレーション結果により基本的に説明した。レーザ走査速度を最適化することを通じて,5インチ直径Siウエハ上均一な厚さを持つBNT薄膜が得られ,膜厚の最大変位は±2.5%以下となった。X線光電子分光とX線回折の結果から,作成した5インチBNT薄膜の化学量論性と結晶度は,非常に均一であることがわかった。さらに,電気的性質の測定から,作成したBNT薄膜は,良好な強誘電的性質とI-V特性を示すことがわかった。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *チタン酸塩 ,  *ビスマス化合物 ,  強誘電体 ,  *ネオジム化合物 ,  *パルスレーザ蒸着 ,  *誘電体薄膜 ,  光走査 ,  レーザアブレーション ,  X線光電子分光法 ,  X線回折 ,  化学量論 ,  結晶度 ,  薄膜成長
準シソーラス用語： レーザ走査 ,  *強誘電体薄膜

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルスレーザ蒸着 ,  直径 ,  Siウエハ ,  BI3 ,  強誘電体薄膜 ,  蒸着