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J-GLOBAL ID：201502235385801315   整理番号：15A0444775

超高真空から空気曝露下でのフルオロホア-ニトロキシドラジカルの電子構造と安定性

Electronic Structure and Stability of Fluorophore-Nitroxide Radicals from Ultrahigh Vacuum to Air Exposure

著者 (6件)： KAKAVANDI R. (Univ. Tuebingen, Tuebingen, DEU) ,  RAVAT P. (Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU) ,  SAVU S.-A. (Univ. Tuebingen, Tuebingen, DEU) ,  BOROZDINA Y. B. (Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU) ,  BAUMGARTEN M. (Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU) ,  CASU M. B. (Univ. Tuebingen, Tuebingen, DEU)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 7  号： 3  ページ： 1685-1692  発行年： 2015年01月28日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニトロニルニトロキシドラジカルがピレンフルオロホアに結合した,1-[4′-(3-オキシド-1-オキシル-4,4,5,5-テトラメチルイミダゾリン-2-イル)ピラゾール-1′-イル]ピレン(PPN)をKnudsenセルを用いてSiO₂/Si(111)上に真空蒸着し,薄膜を作製した。この薄膜の電子構造をX線分光法(X線光電子分光法(XPS),近吸収端X線吸収微細構造)と電子常磁性共鳴スペクトル(EPR)を結合した方法により調べた。XPSとEPRを同時測定することにより得られる結果の定量的相関性を得た。この相関性はその場測定した電子構造と古典的なex situ常磁性研究をつなぐ標準的分析手段として利用できる。

シソーラス用語： *X線光電子分光法 ,  XAFS ,  *ESR【磁気共鳴】 ,  *ニトロキシド ,  *芳香族縮合炭化水素 ,  *薄膜 ,  *窒素複素環化合物 ,  磁気的性質 ,  ラジカル
準シソーラス用語： X線吸収微細構造 ,  *ニトロニルニトロキシド類 ,  *ピレン誘導体

分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  有機化合物のEPR  (BM07024U)

物質索引 (1件)： [[4,4,5,5-テトラメチル-2-[1-(1-ピレニル)-1H-ピラゾール-4-イル]-1H-イミダゾール3-オキシド]-1-イルオキシ]ラジカル

タイトルに関連する用語 (5件)： 高真空 ,  曝露 ,  フルオロホア ,  電子構造 ,  安定性