文献

J-GLOBAL ID：201502235982345045   整理番号：15A0328807

多方向UVリソグラフィーと予測構造モデリングによる3Dナノ構造の製作

Fabrication of 3D nanostructures by multidirectional UV lithography and predictive structural modeling

著者 (4件)： KIM Jungkwun (Univ. Pennsylvania, PA, USA) ,  KIM Cheolbok (Univ. Florida, FL, USA) ,  ALLEN Mark G (Univ. Pennsylvania, PA, USA) ,  YOON Yong-Kyu (Univ. Florida, FL, USA)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 25  号： 2  ページ： 025017,1-10  発行年： 2015年02月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多方向UVリソグラフィー(DMUL)プロセスは3Dナノ構造の製作のためのサブミクロンフォトマスクパターンに適用してきた。サブ波長パターンによる回折は著しいため,製作した3Dパターンは回折により大きく変形した。ナノDMULに対するレイトレースを回折,屈折そして吸収を考慮して解析的に計算した。また,後部露光方式を使用し異なる光線量を用いた製作を行った。製作した構造は計算した形状と良い一致を示した。その形状を市販の入手可能なシミュレーションツールを使用して予測した。分析に基づきナノDMULを多様な3Dナノ構造に対して使用した。そこでは多様な3Dナノ構造を作る能力を示すために異なるチルトと回転角を使用した。三角スラブ,回転風向計,四重三角スラブそしてホーンのような3Dナノ構造を成功裏に示した。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  予測モデル ,  *モデル ,  モデリング ,  *ナノ構造 ,  *三次元 ,  製造 ,  フォトマスク ,  回折 ,  屈折 ,  吸収
準シソーラス用語： *3D ,  *構造モデル ,  製作

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光の散乱,回折,干渉  (BD03030M)

タイトルに関連する用語 (7件)： 多方向 ,  リソグラフィー ,  予測 ,  構造モデリング ,  3D ,  ナノ構造 ,  製作