H<sub>2</sub>およびHClとシリコン表面との反応に関する活性化エネルギーの計算に対するクラスターサイズの効果

KUNIOSHI Nilson; ANZAI Keisuke; USHIJIMA Harunobu; FUWA Akio

文献

J-GLOBAL ID：201502237718777266 整理番号：15A0486504

H₂およびHClとシリコン表面との反応に関する活性化エネルギーの計算に対するクラスターサイズの効果

Effects of cluster size on calculation of activation energies of silicon surface reactions with H₂ and HCl

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資料名：
巻： 418 ページ： 115-119 発行年： 2015年05月15日
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

シリコン表面における反応の活性化エネルギーの計算に対するクラスターサイズの効果を決定するために,サイズと形状の異なる様々なシリコンクラスターとH₂およびHClとの2量体内部吸着および脱着反応を,B3LYP/6-31G(d,p)レベルの下で解析した。表面上における数と方位の異なる2量体から成るクラスターとH₂およびHClとの反応に関する活性化エネルギーを見積もった。互いに平行な2量体を持つクラスターに関しては,活性化エネルギーは3つの2量体で十分に収束するが,一列に並んだ2量体を含むクラスターでは,活性化エネルギーは4個の2量体でも十分に収束しないことが分かった。表面上において,互いに平行な3つの2量体を含むクラスターの活性化エネルギーは,文献に見られる値と良く一致するように思えるが,列内および列間の反応機構をモデル化するためにクラスターの潜在用途を考えると,表面上で互いに平行な3個の2量体および一列に並んだ3個の2量体を含むクラスターとH₂およびHClとの反応も研究した結果,得られた活性化エネルギーは報告されている値といっそう良く一致することが分かった。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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その他の無触媒反応 , 原子・分子のクラスタ

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H2およびHClとシリコン表面との反応に関する活性化エネルギーの計算に対するクラスターサイズの効果

H₂およびHClとシリコン表面との反応に関する活性化エネルギーの計算に対するクラスターサイズの効果