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J-GLOBAL ID：201502237812678379   整理番号：15A0513580

粉末ターゲットのマグネトロンスパッタリングで蒸着した高いエントロピー合金薄膜

High entropy alloy thin films deposited by magnetron sputtering of powder targets

著者 (7件)： BRAECKMAN B.R. (Dep. of Solid State Sciences, Ghent Univ., Krijgslaan 281 (S1), 9000 Gent, BEL) ,  BOYDENS F. (Dep. of Solid State Sciences, Ghent Univ., Krijgslaan 281 (S1), 9000 Gent, BEL) ,  HIDALGO H. (GREMI, UMR7344 CNRS, Univ. d’Orleans, BP6744, 45067 Orleans Cedex 2, FRA) ,  DUTHEIL P. (GREMI, UMR7344 CNRS, Univ. d’Orleans, BP6744, 45067 Orleans Cedex 2, FRA) ,  JULLIEN M. (Inst. Jean Lamour, Univ. de Lorraine, UMR CNRS, 7198 Vandoeuvre-les-Nancy, FRA) ,  THOMANN A.-L. (GREMI, UMR7344 CNRS, Univ. d’Orleans, BP6744, 45067 Orleans Cedex 2, FRA) ,  DEPLA D. (Dep. of Solid State Sciences, Ghent Univ., Krijgslaan 281 (S1), 9000 Gent, BEL)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 580  ページ： 71-76  発行年： 2015年04月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高いエントロピー合金(HEA)は等モルまたは近いモル比で少なくとも5つの主要な要素を含んでいる。これらの材料は通常,面心立方(FCC)又は体心立方(BCC)固溶体,またはこれらの2種の混合物として結晶化する。AlCoCrCuFeNi薄膜を自家性のプレス粉末ターゲットからマグネトロンスパッタリングによって蒸着された。異なった組成を有する4種のターゲットを合金組成を変更するために,様々な条件のもとでスパッタリングされた。走査電子顕微鏡とエネルギー分散形X線分析法を用い,表面形態と構成を調査し,X線回折とX線反射率から膜の相形成と密度の情報が得られた。構成分子の原子半径を考慮に入れると,スパッタで蒸着された合金薄膜を位相的にAl-(CoCrCuFeNi)の二元合金と見なすことができる。最も大きい原子(Al)の組成が増加すると,FCCからBCCまでの転位が見られた。この構造転位を臨界的な格子ひずみの結果と考えることができた。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ターゲット ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *合金 ,  BCC金属 ,  FCC金属 ,  *転位【結晶】
準シソーラス用語： 格子転位 ,  *高エントロピー合金 ,  体心立方格子金属 ,  面心立方金属

分類 (2件)： 金属の結晶構造  (BK06000V) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 粉末 ,  ターゲット ,  マグネトロンスパッタリング ,  蒸着 ,  エントロピー ,  合金薄膜