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J-GLOBAL ID:201502241496878074   整理番号:15A0109008

フッ化物含有有機電解質中の鉄のアノード膜の形成と電界アシスト溶解

Formation and field-assisted dissolution of anodic films on iron in fluoride-containing organic electrolyte
著者 (8件):
資料名:
巻: 151  ページ: 363-369  発行年: 2015年01月01日 
JST資料番号: B0535B  ISSN: 0013-4686  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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マグネトロンスパッタ鉄膜を,フッ化アンモニウムと水を含有するエチレングリコール電解質で50Vの二つの異なる掃引速度で動電位的アノード酸化した。1.0Vs-1の高掃引速度で,電流効率は約50%と低いものであったにもかかわらず,バリア型アノード酸化膜を形成した。対照的に,ナノポーラスアノード膜を0.05Vs-1の低掃引速度で開発し,成膜効率を37%まで減少した。アノード膜の主要部分は,FeF3からなる薄い内層を有する鉄(III)ヒドロキシフッ化物で構成した。内側のフッ化物層を,酸素化学種に比べてフッ化物イオンの迅速な内方マイグレーションにより形成した。15V及びそれ以下で約100nmの厚さの,バリア型アノード膜を有する鉄試料の浸漬または再アノード酸化中,アノード膜の薄膜化が均一に進行し,膜の溶解を,電界を印加することによって増強した。膜形成及び溶解に及ぼす電界の影響を議論した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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電気化学反応  ,  電解装置  ,  金属薄膜 
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