AKASHI Tetsuya について
Central Res. Lab., Hitachi, Ltd., Hatoyama 350-0395, JPN について
TAKAHASHI Yoshio について
Central Res. Lab., Hitachi, Ltd., Hatoyama 350-0395, JPN について
TANIGAKI Toshiaki について
Central Res. Lab., Hitachi, Ltd., Hatoyama 350-0395, JPN について
SHIMAKURA Tomokazu について
Central Res. Lab., Hitachi, Ltd., Hatoyama 350-0395, JPN について
KAWASAKI Takeshi について
Central Res. Lab., Hitachi, Ltd., Hatoyama 350-0395, JPN について
FURUTSU Tadao について
Central Res. Lab., Hitachi, Ltd., Hatoyama 350-0395, JPN について
SHINADA Hiroyuki について
Central Res. Lab., Hitachi, Ltd., Hatoyama 350-0395, JPN について
MUELLER Heiko について
Corrected Electron Optical Systems GmbH, Englerstr. 28, D-69126 Heidelberg, DEU について
HAIDER Maximilian について
Corrected Electron Optical Systems GmbH, Englerstr. 28, D-69126 Heidelberg, DEU について
OSAKABE Nobuyuki について
Central Res. Lab., Hitachi, Ltd., Hatoyama 350-0395, JPN について
TONOMURA Akira について
Central Res. Lab., Hitachi, Ltd., Hatoyama 350-0395, JPN について
Applied Physics Letters について
透過型電子顕微鏡 について
収差補正 について
高分解能 について
電界放出 について
電磁場 について
球面収差 について
電子顕微鏡観察 について
窒化ガリウム について
半導体材料 について
化合物半導体 について
球面収差補正 について
電子顕微鏡,イオン顕微鏡 について
サブ について
分解能 について
収差補正 について
電界放出 について
透過型電子顕微鏡 について