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J-GLOBAL ID:201502244769199565   整理番号:15A0336867

反応性スパッタリングの間のターゲット浸食のモデリング

Modeling target erosion during reactive sputtering
著者 (2件):
資料名:
巻: 331  ページ: 185-192  発行年: 2015年03月15日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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反応性スパッタ条件がAl/O2DC反応性スパッタシステムに対するレーストラック及びスパッタプロファイルに及ぼす影響をモデル化することにより調べた。再堆積の役割,すなわちスパッタした材料のターゲットへの再堆積,を考慮した。使用したモデルRSD2013は空間分解法によりターゲット条件に対する再堆積の影響をシミュレーションすることができる。RSD2013モデルに再堆積を含めたときと含めなかったときを比較した結果,ターゲットの深さ酸化プロファイルは異なることが分かった。モデル化の結果,形成されたレーストラック,すなわち浸食深さプロファイルとスパッタプロファイルの区別が重要であることが分かった。後者は真空室内のスパッタ原子の分布をはっきりさせる。ターゲットの条件がスパッタ収率を決めるのでそれは平面型円形ターゲットのレーストラック及びスパッタプロファイルを決定する。レーストラック及びスパッタプロファイルの形は両方とも酸素フローの変化の関数と同様に再堆積割合の関数として変化した。はっきりした非対称性及びナローイングがレーストラックの形に観測された。類似の影響がスパッタプロファイルに観測されたが,その程度は異なった。この研究に基づいて,レーストラックの形が反応性スパッタリングの間のスパッタされた原子の分布を決めるというよく聞かれる誤解は間違いであることを証明した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
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