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J-GLOBAL ID：201502247746112895   整理番号：15A0674785

フレキシブルなマイクロストリップライン型プローブを用いた極薄磁性膜の透磁率測定

Permeability Measurements of Very Thin Magnetic Film Using a Flexible Microstrip-Line-Type Probe

著者 (7件)： KUSUNOKI K. (Sendai National Coll. of Technol.) ,  YABUKAMI S. (Tohoku Gakuin Univ.) ,  OZAWA T. (Tohoku Gakuin Univ.) ,  UETAKE H. (Tohoku Gakuin Univ.) ,  YAMADA H. (Sendai National Coll. of Technol.) ,  MIYAZAWA Y. (Toei Scientific Industrial Co. Ltd) ,  SHIMADA Y. (Graduate School of Engineering, Tohoku Univ.)
資料名： Journal of the Magnetics Society of Japan  (Journal of the Magnetics Society of Japan)
巻： 39  号： 3  ページ： 111-115 (J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： Z0944A  ISSN： 1882-2924  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スキン効果を用いた薄膜透磁率測定用の高感度プローブを開発した。フレキシブルなポリイミド基板上にマイクロストリップライン型プローブを作製し,磁性薄膜と接触させて設置した。ニュートン-ラフソン法により透磁率の最適化を行なった。透磁率計を用いて,非晶質Co₈₅Nb₁₂Zr₃膜(25mm×25mmおよび5nm厚)の透磁率を評価した。測定値は,ランダウ-リフシッツ-ギルバート方程式および7GHzまでの渦電流生成に基づく理論値と大まかに一致する。フレキシブルなプローブと薄膜間の接触面が非常に良くフィットし,信号対雑音比の改善が生じるため,本提案手法は厚み10nm以下の極薄膜の測定に有望である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *マイクロストリップ線路 ,  柔軟性 ,  *磁性薄膜 ,  超薄膜 ,  *透磁率 ,  *計測 ,  *プローブ ,  高感度 ,  基板 ,  ポリイミド ,  最適化 ,  Newton-Raphson法 ,  *非晶質合金 ,  *コバルト合金 ,  ニオブ含有合金 ,  ジルコニウム含有合金 ,  金属薄膜 ,  渦電流 ,  SN比
準シソーラス用語： マイクロストリップライン

分類 (2件)： 磁性体測定技術・装置  (BM06030I) ,  金属のランダム磁性  (BM06082T)

引用文献 (10件)：

• 1) P. A. Calcagno, D. A. Thompson: Rev. Sci. Instrum., 46, 904 (1975).
• 2) M. Yamaguchi, S. Yabukami and K.I. Arai: IEEE Trans. Magn., 32, 4941 (1996).
• 3) H. B. Weir: Proc IEEE., 62, 33 (1975).
• 4) G. Counil, Joo-Von Kim, T. Devolder, C. Chappert, K. Shigeto and Y. Otani, J. Appl. Phys. 95, 5646 (2004).
• 5) T. Kimura, S. Yabukami, T. Ozawa, Y. Miyazawa, H. Kenju, Y. Shimada: J. Magn. Soc. Jpn. 38, pp. 87-91 (2014).

タイトルに関連する用語 (5件)： マイクロストリップライン ,  プローブ ,  極 ,  磁性膜 ,  透磁率測定