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J-GLOBAL ID:201502258540489196   整理番号:15A0452562

電解質薄膜下での金属の腐食速度の測定法

A Method for Determining the Corrosion Rate of a Metal under a Thin Electrolyte Film
著者 (3件):
資料名:
巻: 162  号:ページ: C135-C139  発行年: 2015年 
JST資料番号: C0285A  ISSN: 1945-7111  CODEN: JESOAN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本稿では,電解質薄膜下のEIS挙動を詳細に分析して,不均一電流分布下でも電荷移動抵抗(腐食電流)を測定する新規な方法を提示した。NaClまたはNaNO3溶液を,電解質膜として用いた。EISは,TML(伝送線)等価回路により首尾よく曲線にフィットした。TML等価回路におけるパラメータを正確に測定する方法を提示した。この方法を5~25μmの極薄電解質膜下での炭素鋼の腐食に適用した。厚さが約20μmのときに,腐食速度は,最大(i2=1mA/cm2)であることを見出した。
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分類 (2件):
分類
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腐食  ,  電気化学反応 
タイトルに関連する用語 (4件):
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