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J-GLOBAL ID:201502261429815921   整理番号:15A0680335

プラズマ溶射による多結晶YSZ基板上の8YSZスプラット形成におけるエピタキシャル結晶粒成長

Epitaxial grain growth during 8YSZ splat formation on polycrystalline YSZ substrates by plasma spraying
著者 (7件):
資料名:
巻: 274  ページ: 37-43  発行年: 2015年07月25日 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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プラズマ溶射8YSZ(8mol%Y2O3)スプラットの結晶構造に及ぼす基板テンプレート効果を,FIB処理したスプラット試料の高分解能透過型電子顕微鏡(HR-TEM)観察によって調査した。8YSZスプラットを,予熱温度を変えて,研磨した焼結正方晶基板(3YSZ)および立方晶基板(8YSZ)に大気プラズマ溶射(APS)によって作製した。集束イオンビーム(FIB)処理をスプラットのTEM断面試料を作製するために利用した。スプラットと下層の基板の両方の結晶構造をHR-TEMによって調査した。研磨焼結立方構造8YSZ基板上に900°Cの基板表面温度で形成した8YSZスプラットは立方格子構造を示し,スプラット結晶粒とその直下の立方晶基板結晶粒間のエピタキシャル結晶粒成長が確認された。基板表面温度を1200°Cに上昇させた場合に,8YSZスプラット結晶と3YSZ正方晶構造の基板との間にもエピタキシャル結晶粒成長が観察された。この結果は,プラズマ溶射によって形成された8YSZのスプラットの結晶構造の形成は,基板のテンプレート効果によって影響を受けることを示唆している。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
非金属材料へのセラミック被覆  ,  酸化物の結晶成長 

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