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J-GLOBAL ID：201502264234957615   整理番号：15A0744586

合金ターゲットを用いて作製したスパッタZrCuNiAl金属ガラス薄膜

ZrCuNiAl Metallic Glass Films Prepared by rf Magnetron Sputtering Using an Alloy Target

著者 (5件)： 井上尚三 (兵庫県立大学大学院工学研究科) ,  船越政伸 (兵庫県立大学大学院) ,  清水実結 (兵庫県立大学大学院) ,  吉木啓介 (兵庫県立大学大学院工学研究科) ,  生津資大 (兵庫県立大学大学院工学研究科)
資料名： 精密工学会誌(Web)  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering (Web))
巻： 81  号： 3  ページ： 276-280 (J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： U0462A  ISSN： 1882-675X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アモルファス合金(金属ガラス)は,高強度,低ヤング率,大弾性変形などの特性を持つため,バルクだけでなくMEMS材料としての応用も期待されている。しかしながら薄膜の基本的な機械的特性については研究が進んでいない。本稿では,Zr基金属ガラスの中でも過冷却液体領域が広いZr₆₅Cu_17.5Ni₁₀Al_7.5の組成の合金をターゲットとして薄膜化し評価を行った。成膜条件による組成ずれや残留応力の発生状況を詳しく分析し,機械的特性やガラス転移挙動を評価した。そして合金ターゲット用いて成膜した場合,ある限定した範囲では均一な組成の膜厚が得られることや,スパッタArガス圧と薄膜の残留応力の関係などを明確にした。

シソーラス用語： *イオンビームスパッタリング ,  スパッタリング ,  *金属ガラス ,  バルク金属ガラス ,  非晶質合金 ,  金属薄膜 ,  機械的性質 ,  残留応力 ,  ガラス転移 ,  ターゲット ,  *ジルコニウム合金
準シソーラス用語： *Zr基合金 ,  アモルファス合金 ,  イオンビームスパッタ ,  機械的特性

分類 (2件)： 金属材料  (HC02020X) ,  機械的性質  (WB02030U)

引用文献 (16件)：

• 1) 井上明久 : バルク金属ガラスの材料科学と工学, シーエムシー出版, (2008).
• 2) 秦誠一, 後藤潤, 佐藤海二, 下河辺明 : 薄膜金属ガラスを用いた微細構造物の製作 (第1報), 精密工学会誌, 66, 1 (2000) 96.
• 3) S. Wang, D. Sun, S. Hata, J. Sakurai and A. Shimokohbe, Fabrication of thin film metallic glass (TFMG) pipe for a cylindrical ultrasonic linear micro-actuator, Sensors and Actuators A, 153, 1 (2009) 120.
• 4) P. Sharma and A. Inoue : in “Handbook of Silicon Based MEMS Materials and Technologies, Chap. 27”, William Andrew Publishing, (2010), 447.
• 5) J. Rivory, J. M. Frigerio, M. Harmelin, A. Quivy, Y. Calvayrac and J. Bigot : Preparation of Cu_xZr_1-x metallic glasses by sputtering and their thermal stability, electrical and optical properties, Thin Solid Films, 89, 3 (1982) 323.

タイトルに関連する用語 (6件)： 合金 ,  ターゲット ,  作製 ,  スパッタ ,  金属ガラス ,  薄膜