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J-GLOBAL ID：201502267093791342   整理番号：15A0125651

半導体ウェーハの回転洗浄における流の可視化

著者 (6件)： 戸叶和宏 (群馬大) ,  鬼山敬弘 (群馬大 大学院) ,  天谷賢児 (群馬大 大学院) ,  檜山浩國 (荏原製作所) ,  福永明荏 (荏原製作所) ,  浜田聡美 (荏原製作所)
資料名： 日本機械学会関東支部総会・講演会講演論文集(CD-ROM)
巻： 20th  ページ： ROMBUNNO.21202  発行年： 2014年03月13日 
JST資料番号： L3954B  ISSN： 2424-2691  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 様々な膜種のウェーハを回転洗浄する場合の流れを可視化し,その特性を明らかにする。特に,洗浄液の広がり方に与えるウェーハ回転数や流量の影響を調べた。得られた画像から,回転洗浄中の液体はウェーハ上で一度液体が通った領域を継続して通る傾向があること,本実験の範囲では,60s間の洗浄にもかかわらず5~10s程度の洗浄しか行われない領域が多くできる傾向があることが確認された。(著者抄録)

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,  半導体 ,  洗浄 ,  *流れの可視化 ,  回転数 ,  流量 ,  洗浄剤 ,  画像 ,  高速度カメラ
準シソーラス用語： 洗浄液

分類 (2件)： 流体の実験・試験・測定方法及び装置  (BC01020K) ,  集塵  (XD02100D)

タイトルに関連する用語 (3件)： ウェーハ ,  洗浄 ,  可視化