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J-GLOBAL ID:201502267151288737   整理番号:15A0491579

ガスフロー蒸着法による高純度有機薄膜の大面積成膜技術

Large-Area Deposition Technology of High Purity Organic Thin Film by Gas Flow Deposition
著者 (7件):
資料名:
巻: 58  号:ページ: 79-85 (J-STAGE)  発行年: 2015年 
JST資料番号: G0194A  ISSN: 1882-2398  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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有機EL素子は軽い面発光光源である特徴を持ち,製造法において,コストを下げるための量産技術の確立が重要である。また,高価な材料の使用効率の向上とともに,歩留まりの向上が必要である。この要請に添って,著者らは従来から用いられてきたドライ系成膜プロセスの課題を解決する目的で,真空蒸着法(VTE)を進化させた,キャリアガスを利用した材料蒸気輸送システムであるガスフロー蒸着法(GFD)を提案してきた。本報では,GFDの大型パネル製造装置用途への応用を考慮し,その成膜プロセスの有用性について紹介した。
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分類 (1件):
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有機化合物の薄膜 
引用文献 (22件):
  • 1) C. W. Tang, S. A. VanSlyke and C. H. Chen: J. Appl. Phys., 65 (1989) 3610.
  • 2) C. Adachi, S. Tokito, T. Tetsuo and S. Saito: Jpn. J. Appl. Phys., 27 (1998) L713.
  • 3) T. Shimizu, A. Nakamura, H. Komaki, T. Minato, H. Spreitzer and J. Kroeber: SID 03 Digest, (2003) 1290.
  • 4) S. Seki, M. Uchida, T. Sonoyama, M. Ito, S. Watanabe, S. Sakai and S. Miyashita: SID 09 Digest, (2009) 593.
  • 5) R. J. Chesterfield, K. D. Frischknecht, M. Stainer, N. Truong, M. Murai, H. Oze, A. Shiota and S. Suzuki: SID 09 Digest, (2009) 951.
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