文献

J-GLOBAL ID：201502270204619316   整理番号：15A0170003

エレクトロニクス関連のちょっとイイ技術&材料ファイル エレワザ×エレザイ FILE20 新しい結晶層作製&デザイン技術~フラックスコーティング法の提案~

著者 (4件)： 手嶋勝弥 ,  是津信行 ,  我田元 (信州大 工) ,  大石修治 (信州大 工)
資料名： コンバーテック  (Convertech)
巻： 43  号： 1  ページ： 76-81  発行年： 2015年01月15日 
JST資料番号： Y0873A  ISSN： 0911-2316  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 機能性薄膜や結晶層を作製する技術としては,気相を介するドライプロセスが一般的である。高分子や金属等の耐熱性の乏しい基材からセラミックスの様な耐熱性に優れる基材まで,幅広い基材へ機能性薄膜を塗工できる。但し,高結晶性の薄膜(結晶相)の成膜には,高額なドライプロセス装置を要する。筆者等は,液相プロセスの一種であるフラックス法の原理を導入した「フラックスコーティング法」を提案し,各種の結晶相を作製してきた。本稿では,次世代エネルギー分野で期待される全結晶型リチウムイオン二次電池(LiB)と可視光応答光触媒に応用する結晶層を例示して「フラックスコーティング法」を説明した。1)はじめに,2)フラックス法(自然に学ぶ結晶育成,結晶-フラックス共晶型二成分状態図),3)フラックスコーティング法の提案(基材表面での不均一核形成(ホモエピタキシャル成長の単結晶薄膜,自形結晶の稠密結晶層(多結晶層),両域を制御したデザイン結晶層(単結晶または多結晶層))→直接結晶成長→結晶層(積層体も可能)),4)光触媒結晶層の作製,5)LiB用の活物質結晶層(電極材料)の作製,6)おわりに。

シソーラス用語： *薄膜 ,  *フラックス法 ,  被覆 ,  被覆層 ,  結晶度 ,  固相 ,  薄膜成長 ,  *リチウムイオン電池 ,  *可視光 ,  *応答 ,  *光触媒 ,  結晶化 ,  状態図 ,  核形成 ,  エピタクシー ,  多結晶 ,  単結晶 ,  電極材料
準シソーラス用語： *リチウムイオン二次電池 ,  *機能性薄膜 ,  共晶析 ,  結晶相 ,  光応答 ,  不均一核形成

分類 (4件)： 結晶成長技術・装置  (BK13020B) ,  溶液論一般  (CB05010Z) ,  二次電池  (YB04030K) ,  光化学一般  (CB08010U)

引用文献 (31件)：

• 大石修治、宍戸統悦、手嶋勝弥:フラックス結晶育成のはなし,日刊工業新聞社 (2010)
• S. Oishi, K. Teshima, H. Kondo, J. Am. Chem. Soc, 126, 4768-4769 (2004)
• K. Teshima, K. Yubuta, T. Shimodaira, T. Suzuki, M. Endo, T. Shishido, S. Oishi, Cryst. Growth Des, 8, 465-469 (2008)
• S. H. Lee, K. Teshima, Y. Mizuno, K. Yubuta, T. Shishido, M. Endo, S. Oishi, CrystEngComm, 12, 2871-2877 (2010)
• K. Teshima, S. H. Lee, A. Yamaguchi, S. Suzuki, K. Yubuta, T. Ishizaki, T. Shishido, S. Oishi, CrystEngComm, 13, 1190-1196 (2011)

タイトルに関連する用語 (8件)： エレクトロニクス ,  ファイル ,  結晶 ,  作製 ,  デザイン ,  フラックス ,  コーティング ,  提案