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J-GLOBAL ID：201502270327773085   整理番号：15A0706486

クラスタイオンビームによるスパッタリングの新しいメカニズム

The new mechanism of sputtering with cluster ion beams

著者 (3件)： CHERNYSH V.S. (Fac. of Physics, Lomonosov Moscow State Univ., Leninskie Gory, Moscow 119991, RUS) ,  IESHKIN A.E. (Fac. of Physics, Lomonosov Moscow State Univ., Leninskie Gory, Moscow 119991, RUS) ,  ERMAKOV Yu.A. (Scobeltsyn Nuclear Physics Res. Inst., Lomonosov State Moscow Univ., Leninskiye Gory, Moscow 119991, RUS)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 326  ページ： 285-288  発行年： 2015年01月30日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 10keVのArクラスタイオン衝撃(垂直入射)下のCu,Mo及びInからスパッタされた原子の角度分布を実験で調べた。Rutherford後方散乱分光(RBS)を使用してAlコレクタ上に堆積した物質を分析した。Moからスパッタされた原子の角度分布は以前に他の著者によりCuに対して報告されているものからは大きく異なることが分かった。クラスタイオンによるスパッタリングの新しいメカニズムを観測された角度分布を記述するために示した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *クラスタイオン ,  アルゴン ,  1-10keV ,  *イオンビームスパッタリング ,  *角分布 ,  *Rutherford後方散乱 ,  *モリブデン ,  表面構造 ,  *トポグラフィー【形態】 ,  原子間力顕微鏡 ,  顕微鏡観察

分類 (2件)： スパッタリング  (BK16110U) ,  金属の表面構造  (BK15020P)

タイトルに関連する用語 (3件)： クラスタイオンビーム ,  スパッタリング ,  メカニズム