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J-GLOBAL ID:201502278571512030   整理番号:15A0535519

プロセス変化の存在下でのブリッジ欠陥を試験する低VDD条件とボディバイアス条件

Low V and body bias conditions for testing bridge defects in the presence of process variations
著者 (5件):
資料名:
巻: 46  号:ページ: 398-403  発行年: 2015年05月 
JST資料番号: A0186A  ISSN: 0026-2692  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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ブリッジ欠陥は試験が原因する信頼性問題を逃れる可能性のある重要な製造欠陥である。ナノメータ領域においては試験品質を低下させる従来の遅延試験法に対してプロセス変化は重大な課題を与えることが分かった。このため,ブリッジ検出を強化する試験方法の進歩が求められている。本研究では,統計的タイミング解析フレームワーク(STAF)を使って各種のVDDとRBB値に対してブリッジ欠陥の検出確率を計算した。このSTAFによりVDDとRBBが変化したとき平均および標準回路遅延の挙動を適切に捉えることができる。さらに,このSTAFではVDDとRBBの遅延増加に対する影響を適切に考慮するのに適した現実的なブリッジ欠陥モデルを使用する。この方法を市販の65nm CMOS技術で製作した幾つかのベンチマーク回路に適用した。幾つかのISCASベンチマーク回路で得た結果から,VDDが低下したとき統計的故障カバレッジ(SFC)は大幅に増加し,低VDDでRBBが適用されたときさらに多く増加することが分かった。遅延に基づく試験で低VDDと逆ボディバイアス(RBB)を組合せ抵抗ブリッジ検出を改良する試験条件を決めた。十分低いVDD値に対してブリッジ検出に対するRBBの影響が大幅に改良されることを示した。VDDとRBBの値は,故障カバレッジと試験時間の長さ間のトレードオフを考慮して選択できる。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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固体デバイス計測・試験・信頼性 
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