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J-GLOBAL ID：201502280692158689   整理番号：15A0374995

反転オフセット印刷プロセスの最適化と金属メッシュタッチスクリーンセンサへの応用

Optimization of a reverse-offset printing process and its application to a metal mesh touch screen sensor

著者 (4件)： CHOI Young-Man (Dep. of Printed Electronics, Korea Inst. of Machinery and Materials, Daejeon, KOR) ,  LEE Eon-Seok (Dep. of Printed Electronics, Korea Inst. of Machinery and Materials, Daejeon, KOR) ,  LEE Taik-Min (Dep. of Printed Electronics, Korea Inst. of Machinery and Materials, Daejeon, KOR) ,  KIM Kwang-Young (Dep. of Printed Electronics, Korea Inst. of Machinery and Materials, Daejeon, KOR)
資料名： Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)
巻： 134  ページ： 1-6  発行年： 2015年02月20日 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反転オフセット印刷は,薄膜トランジスタやタッチスクリーンなどの超微細パターンデバイスを製造するための代替的な手法である。この方法は,数マイクロメータ以下の微細パターン形成を可能とするだけではなく,多層デバイスにとって重要な高品質な表面の保持を保証する。超微細パターン形成には,印刷圧力や印刷速度を含む数種類の印刷パラメータに従った反転印刷プロセスの精密な調節が必要になる。これらのパラメータはパターン形成の機構を支配するインク膜の接着力と凝集力に影響を与える。この論文では,パターン形成の機構を分析し,優れた印刷性を獲得するために印刷パラメータの最適化を行った。光透過法を用いて各印刷試験における印刷性を定量的に評価した。最後に最適化した印刷プロセスに基づいて,単層の金属メッシュタッチスクリーンセンサが製作できることを示した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *オフセット印刷 ,  反転 ,  *タッチスクリーン ,  *電極 ,  *印刷適性 ,  最適化
準シソーラス用語： プロセス最適化 ,  *メッシュ電極

分類 (2件)： 入出力装置  (JC04050U) ,  その他の固体デバイス  (NC03150A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 反転 ,  オフセット印刷 ,  プロセス ,  最適化 ,  応用