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J-GLOBAL ID:201502285763791851   整理番号:15A0512599

ナノ結晶IV族合金半導体:調整可能なバンドギャップ用のGe1-xSnx量子ドットの合成とキャラクタリゼーション

Nanocrystalline Group IV Alloy Semiconductors: Synthesis and Characterization of Ge1-xSnx Quantum Dots for Tunable Bandgaps
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巻: 27  号:ページ: 1559-1568  発行年: 2015年03月10日 
JST資料番号: T0893A  ISSN: 0897-4756  CODEN: CMATEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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サイズが15-23nmと3.4-4.6nmの範囲にあり,Sn濃度がx=0-0.279のGe1-xSnxナノ合金を合成した。不必要なSn不純物が消去される原因も調べた。格子定数の組成依存性をX線回折とRaman分光法により調べ,Sn濃度を高くしていくと,立方晶Ge格子が非線形に膨張することを示した。量子サイズ効果によって,バンドギャップがバルクGeから大きい青方偏移が生じ,x=0-0.115のとき,小さいGe1-xSnxナノ合金(3.4-4.6nm)で間接バンドギャップが1.31eVから0.75eVへ,直接バンドギャップが1.47eVから0.95eVへシフトした。合成したままのGe1-xSnxナノ合金は高い熱安定性を見せ,最高400-500°Cまで焼結に対して中程度の耐性を見せた。
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  半導体結晶の電子構造 
タイトルに関連する用語 (5件):
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