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J-GLOBAL ID：201502285809997700   整理番号：15A0602701

LiNbO₃膜の構造と特性に及ぼすスパッタリング条件の影響

Sputtering condition effect on structure and properties of LiNbO₃ films

著者 (6件)： SUMETS M. (Voronezh State Univ., Universitetskaya Square, 1, 394000, Voronezh, RUS) ,  SUMETS M. (Univ. of Texas at Brownsville, Center of Gravitational Wave Astronomy, 80 Fort Brown, 78520, Brownsville, TX, USA) ,  KOSTYUCHENKO A. (Voronezh State Univ., Universitetskaya Square, 1, 394000, Voronezh, RUS) ,  IEVLEV V. (Voronezh State Univ., Universitetskaya Square, 1, 394000, Voronezh, RUS) ,  KANNYKIN S. (Voronezh State Univ., Universitetskaya Square, 1, 394000, Voronezh, RUS) ,  DYBOV V. (Voronezh State Univ., Universitetskaya Square, 1, 394000, Voronezh, RUS)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 26  号： 6  ページ： 4250-4256  発行年： 2015年06月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 種々のスパッタリング条件で,高周波マグネトロンスッパタリング(RFMS)法及びイオンビームスパッタリング(IBS)法によって,多結晶LiNbO₃膜を種々の基板上に成長させた。浸食ゾーン(プラズマ効果)内に位置する基板上に形成された膜は,凹凸構造を示した。プラズマ効果が重要でなくなった時,ランダムサイズ方位のLiNbO₃膜が,結晶の大きさの増加に伴って,RFMSプロセスとIBSプロセス中に形成された。プラズマ効果の一部としての反応性ガス圧力は,膜の性質に大きな影響を持つ。ガス圧力が大幅に増加した時,粒径が半分に減少し,成長膜の平均表面粗さが倍増した。より高いガス圧では,Liが乏しい相のLiNb₃O₈が,成長プロセスの間に,LiNbO₃と共に現れた。その結果,膜の凹凸構造が消失した。二軸(エピタキシャル)凹凸構造を持つ単相LiNbO₃膜をイオン支援条件でRFMSプロセス中に(111)Agエピタキシャル膜上に形成する。Copyright 2015 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ニオブ酸リチウム ,  *構造特性 ,  *スパッタリング ,  X線回折 ,  原子間力顕微鏡 ,  電子回折 ,  Rutherford散乱分光法 ,  透過型電子顕微鏡 ,  粒径 ,  表面粗さ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (1件)： スパッタリング