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J-GLOBAL ID：201502286932055090   整理番号：15A0287041

プラズマ増速化学蒸着法により成長させた窒化炭素ナノ構造の濡れ挙動

Wetting behaviour of carbon nitride nanostructures grown by plasma enhanced chemical vapour deposition technique

著者 (3件)： AHMAD Kamal Shafarina Azlinda (Low Dimensional Materials Res. Centre, Dep. of Physics, Univ. of Malaya, 50603 Kuala Lumpur, Malaysia) ,  RITIKOS Richard (Low Dimensional Materials Res. Centre, Dep. of Physics, Univ. of Malaya, 50603 Kuala Lumpur, Malaysia) ,  ABDUL Rahman Saadah (Low Dimensional Materials Res. Centre, Dep. of Physics, Univ. of Malaya, 50603 Kuala Lumpur, Malaysia)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 328  ページ： 146-153  発行年： 2015年02月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 堆積パラメータを単純に制御することによるいろいろな被覆材料の濡れ性調節は各種の特別な応用にとって極めて重要である。ここでは,平行プレート電極配置のラジオ周波数プラズマ増速化学蒸着法を使用して窒化炭素(CN_x)膜をシリコン(111)基板上に堆積した。電極距離(D_E)の変化が膜の構造及び結合特性に与える影響を電界放出形走査電子顕微鏡,原子間力顕微鏡,Fourier変換赤外分光法及びX線光電子分光法を使用して調べた。膜の濡れを水接触角測定により分析した。大きなD_EではCN_x膜の表面は滑らかで一様であった。それはD_Eが小さくなると繊維状ナノ構造物に変わった。膜の表面粗さはこのモルフォロジー変化により増大した。窒素の混入はD_Eの減少により増加し,C=NのC=C及びN-HのO-Hに対する相対強度の増加を示した。sp³-Cに対するsp²-Cの比は,D_Eが増加すると低D_Eにおけるsp²結合炭素の大きな変形のために増加した。膜の特性はD_Eの減少により親水性から超疎水性に変化した。接触角測定から計算した粗さ比,表面ポロシティ及び表面エネルギーは膜のモルフォロジー,表面粗さ及び結合特性に強く依存した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ケイ素 ,  基板 ,  *炭素化合物 ,  *窒化物 ,  RF放電 ,  *プラズマCVD ,  *ナノ構造 ,  *濡れ ,  距離 ,  走査電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  顕微鏡観察 ,  *表面粗さ ,  モルフォロジー ,  X線光電子スペクトル ,  赤外吸収スペクトル ,  *化学結合 ,  親水性 ,  疎水性 ,  濡れ転移
準シソーラス用語： *窒化炭素 ,  電極間距離 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  FTIRスペクトル

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (8件)： プラズマ ,  増速 ,  化学蒸着法 ,  成長 ,  窒化炭素 ,  ナノ構造 ,  濡れ ,  挙動