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J-GLOBAL ID：201502287985479875   整理番号：15A0367510

高密度高分子ブラシ表面のネマチック液晶アンカリング力

Nematic liquid crystal anchoring strengths of high density polymer brush surfaces

著者 (7件)： SATO Osamu (LG Display Co., Ltd., Tokyo, JPN) ,  IWATA Naoto (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  KASAI Takahiro (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  TSUJII Yoshinobu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KANG Sungmin (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  WATANABE Junji (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  TOKITA Masatoshi (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Liquid Crystals  (Liquid Crystals)
巻： 42  号： 2  ページ： 181-188  発行年： 2015年02月 
JST資料番号： E0179C  ISSN： 0267-8292  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高密度高分子ブラシの液晶アンカリング係数A₂はネマチック液晶との界面でポリマーのガラス転移点以上で低下する。高分子ブラシのA₂値は温度の上昇と共に低下した。25°Cで,ポリメタクリル酸メチル(PMMA),ポリメタクリル酸エチル(PEMA)及びポリスチレン(PS)ブラシによる高分子ブラシは10^-5Jm^-2のA₂,並びに参照ラビングポリイミドセルと同じ電圧-透過率(V-T)曲線とスイッチングオフ電圧(τ_off)値を示した。同じ温度で,ポリメタクリル酸ヘキシルブラシセルは他のセルより低い閾値電圧と低いτ_off,そして低いA₂1×10^-6Jm^-2を示した。高分子ブラシセルのA₂値の低下はネマチック液晶による界面での各高分子ブラシのガラス転移点と関係している。高分子ブラシ表面の液晶アンカリング力はバルクポリマのガラス転移点の影響を受けるが,ポリマーのネマチック液晶との適合性が高いときは低下できることが分かった。

シソーラス用語： *高分子ブラシ ,  密度 ,  表面 ,  *ネマチック相 ,  *アンカリング【液晶】 ,  界面 ,  *ガラス転移点 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  ポリメタクリル酸アルキル ,  ラビング ,  ポリイミド ,  透過率 ,  電圧 ,  ポリスチレン ,  芳香族炭化水素 ,  ビニル化合物 ,  脂肪族カルボン酸 ,  オレフィン化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  カルボン酸エステル
準シソーラス用語： *ネマチック液晶 ,  ポリメタクリル酸エチル ,  ポリメタクリル酸ヘキシル ,  高密度 ,  閾値電圧

分類 (2件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  ネマチック相  (BK03020W)

物質索引 (4件)： スチレン ,  メタクリル酸エチル ,  メタクリル酸メチル ,  メタクリル酸ヘキシル

タイトルに関連する用語 (3件)： 高分子ブラシ ,  ネマチック液晶 ,  アンカリング