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J-GLOBAL ID：201502298022826016   整理番号：15A0208891

大量生産への最近のEUVレジスト

Recent EUV Resists toward High Volume Manufacturing

著者 (3件)： NAKAGAWA Hisashi (JSR Corp., Mie, JPN) ,  NARUOKA Takehiko (JSR Corp., Mie, JPN) ,  NAGAI Tomoki (JSR Corp., Mie, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 27  号： 6  ページ： 739-746  発行年： 2014年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外線リソグラフィー(EUVL)は,20年以上次世代リソグラフィー(NGL)として魅力的方法であった。そして大量生産(HVM)が,材料同様にEUV光源出力強化における大きな進歩により実現している。この報告では,通常の有機材料ベースレジストから新規無機材料ベースレジストの範囲のEUVL用の最近報告された材料をまとめた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  大量生産 ,  技術革新 ,  光源 ,  *レジスト ,  有機材料 ,  無機材料
準シソーラス用語： *極端紫外線リソグラフィー ,  *次世代

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (57件)：

• 1. ITRS website, http://www.itrs.net/.
• 2. K. Sakai, M. Shiratani, T. Fujisawa, K. Inukai, K. Sakai, K. Maruyama, K. Hoshiko, R. Ayothi, A. Santos, T. Naruoka, T. Nagai, J. Photopolym. Sci. Technol. 27 (2014) 639.
• 3. T. Wallow, C. Higgins, R. Brainard, K. Petrillo, W. Montgomery, C.-S. Koay, G. Denbeaux, O. Wood, Y. Wei, Proc. SPIE., 6921, (2008) 69211F.
• 4. H. Tsubaki, S. Tarutani, T. Fujimori, H. Takizawa, T. Goto, Proc. SPIE., 9048 (2014) 90481E.
• 5. H. Tanagi, H. Tanaka, S. Hayakawa, K. Furukawa, H. Yamamoto, T. Kozawa, Proc. SPIE., 9051 (2014) 905125.

タイトルに関連する用語 (1件)： EUVレジスト