特許

J-GLOBAL ID：201503000368513370

金属表面の清浄化方法

発明者： 逢坂 哲彌 ,  門間 聰之 ,  横島 時彦 ,  奈良 洋希
出願人/特許権者： 学校法人早稲田大学
代理人 (3件)： 伊藤 進 ,  長谷川 靖 ,  篠浦 治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-069692
公開番号（公開出願番号）：特開2015-190030
出願日： 2014年03月28日
公開日（公表日）： 2015年11月02日
要約：

【課題】非水めっきに適した金属表面の清浄化方法を提供する。【解決手段】前処理装置10は露点-95°Cのアルゴン雰囲気のグローブボックス30内に配置されており、トリクレンを用いて有機溶剤洗浄を行った100μm厚の銅箔等からなる基板11と、白金ワイヤ等の対極12と、Li/Li+(TBAClO4)等の参照電極13と、0.5M TBAClO4を溶解したPC(プロピレンカーボネート)等の電解液14と、を有する。非水溶媒と前記非水溶媒に溶解された導電性塩を含む電解液14中で、基体11を陽極として電解処理する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

非水溶媒と前記非水溶媒に溶解された導電性塩を含む電解液中で、金属からなる基体が陽極として電解処理されることを特徴とする金属表面の清浄化方法。

IPC (1件)：

C25F 1/00

FI (1件)：

C25F1/00 B