特許

J-GLOBAL ID：201503000688726895

現像液及びこれを用いたパターン形成方法

発明者： 畠山 潤
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-255157
公開番号（公開出願番号）：特開2014-102420
特許番号：特許第5817707号
出願日： 2012年11月21日
公開日（公表日）： 2014年06月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(1)で示されるグアニジン類の1種又は2種以上を0.1〜10質量%含有する水溶液からなることを特徴とする感光性レジスト材料用現像液。 (式中、R1〜R4は水素原子、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、又は置換又は非置換のフェニル基である。)

IPC (5件)：

G03F 7/32 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  C08F 220/10 ( 200 6.01) ,  C08F 220/38 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  C08F 220/10 ,  C08F 220/38

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-087838
  
• 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-148386   出願人：富士フイルム株式会社
• 重合性モノマー、高分子化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-116721   出願人：信越化学工業株式会社