特許
J-GLOBAL ID:201203085847690883
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-148386
公開番号(公開出願番号):特開2012-013811
出願日: 2010年06月29日
公開日(公表日): 2012年01月19日
要約:
【課題】特定のグアニジン化合物を含有することにより、スカム低減性に優れ、解像性が優れることにより良好な形状のパターンを形成することができ、感度、LERにも優れ、更にPEB温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】logP値1.2以上のグアニジン化合物(A)、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
logP値1.2以上のグアニジン化合物(A)、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件):
G03F 7/004
, G03F 7/039
, G03F 7/038
, C08F 20/10
, H01L 21/027
FI (6件):
G03F7/004 503A
, G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, G03F7/038 601
, C08F20/10
, H01L21/30 502R
Fターム (100件):
2H125AE03P
, 2H125AE04P
, 2H125AE05P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF19P
, 2H125AF21P
, 2H125AF27P
, 2H125AF34P
, 2H125AF35P
, 2H125AF36P
, 2H125AF37P
, 2H125AF38P
, 2H125AF39P
, 2H125AF43P
, 2H125AF45P
, 2H125AF52P
, 2H125AF53P
, 2H125AF55P
, 2H125AF70P
, 2H125AH05
, 2H125AH06
, 2H125AH12
, 2H125AH13
, 2H125AH15
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH29
, 2H125AJ04X
, 2H125AJ04Y
, 2H125AJ13X
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ43X
, 2H125AJ44Y
, 2H125AJ47Y
, 2H125AJ48X
, 2H125AJ48Y
, 2H125AJ55X
, 2H125AJ59X
, 2H125AJ63X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ64Y
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ65Y
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AJ70Y
, 2H125AM12P
, 2H125AM15P
, 2H125AM22P
, 2H125AM23P
, 2H125AM27P
, 2H125AM32P
, 2H125AM86P
, 2H125AM94P
, 2H125AM99P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN57P
, 2H125AN61P
, 2H125AN62P
, 2H125AN65P
, 2H125AN67P
, 2H125AN82P
, 2H125AN86P
, 2H125BA01P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB08
, 2H125CB09
, 2H125CB12
, 2H125CB16
, 2H125CC01
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125CC17
, 2H125CD01P
, 2H125CD05P
, 2H125CD35
, 2H125CD40
, 2H125FA03
, 4J100AJ02S
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03R
, 4J100BC09P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC53P
, 4J100BC53Q
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA38
引用特許: