特許
J-GLOBAL ID：201503000820517302
ガスセンサ素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
名古屋国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-237882
公開番号（公開出願番号）：特開2015-099038
出願日： 2013年11月18日
公開日（公表日）： 2015年05月28日
要約：
【課題】マスク治具の取り外しが容易で量産に適したガスセンサ素子の製造方法を提供する。【解決手段】基体120の内表面に核を付着させる核付け工程と、メッキ液中の貴金属を析出させるメッキ工程とを経て内表面に電極を形成する際に、メッキ工程に先立ち、マスク領域にマスク治具100を装着する装着工程と、メッキ液の排出後に残留するメッキ液を水で洗い流す洗浄工程と、基体120内に残留する水を蒸発させる加熱工程と、マスク治具100を基体120内から取り出す取出し工程とを備え、マスク治具100は、基体の内表面に対し、自身の弾性変形により密着可能な形態をなし、かつ、メッキ工程の温度である第1温度よりも高く、加熱工程の温度である第2温度よりも低い所定温度を超えると弾性力が低下することを特徴とする。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
軸線方向に延びる有底筒状の基体の内表面に核を付着させる核付け工程と、
前記核が触媒として作用するメッキ液を用いて、前記メッキ液中の貴金属を前記内表面に析出させるメッキ工程と、を経て、
前記内表面に、前記貴金属からなる電極を形成するガスセンサ素子の製造方法であって、
前記メッキ工程に先立って、前記内表面のうち前記電極を形成する予定の電極予定領域とは異なるマスク領域に、マスク治具を装着する装着工程と、
前記メッキ液が前記基体から排出された後に、前記基体内に残留する前記メッキ液を水により洗い流す洗浄工程と、
前記洗浄工程で用いられ前記基体内に残留する前記水を蒸発させる加熱工程と、
前記水を蒸発させた後に前記マスク治具を前記基体内から取り出す取出し工程と、を備え、
前記マスク治具は、前記基体の前記内表面に対し、自身の弾性変形により密着可能な態様をなし、かつ、前記メッキ工程において加えられる温度である第1温度よりも高く、前記加熱工程において加えられる温度である第2温度よりも低い所定温度を超えると自身の弾性力が低下することを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2G004BB01
, 2G004BE14
, 2G004BE15
, 2G004BE22
, 2G004BM07
