特許
J-GLOBAL ID：201503001117819361
マイクロ構造体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
山田 卓二
, 田中 光雄
, 岡部 博史
, 徳山 英浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-025470
公開番号（公開出願番号）：特開2015-150634
出願日： 2014年02月13日
公開日（公表日）： 2015年08月24日
要約：
【課題】凹凸パターンの転写性の低下を抑えるとともに、マイクロ構造体の内部に気泡が残存することを抑えることができるマイクロ構造体の製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係るマイクロ構造体の製造方法は、微細な凹凸パターンを有する型(1)の表面にナノファイバ(2)を吹き付けて堆積させる工程と、堆積させたナノファイバ(2)を加熱溶融させた後、冷却して、ナノファイバフィルム(5)を形成する工程とを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
微細な凹凸パターンを有する型の表面にナノファイバを吹き付けて堆積させる工程と、
前記堆積させたナノファイバを加熱溶融させた後、冷却して、ナノファイバフィルムを形成する工程と、
を含む、マイクロ構造体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
3C081AA17
, 3C081CA31
, 3C081CA36
, 3C081CA40
, 3C081DA10
