特許
J-GLOBAL ID：201503001542816619

粒子を製造する装置及び方法

発明者：
ルート、アイリック

ルート、アイリック について


出願人/特許権者：
リアクティブ・メタル・パーティクルズ・アーエス

リアクティブ・メタル・パーティクルズ・アーエス について


代理人 (6件)： 曾我 道治 ,  梶並 順 ,  田口 雅啓 ,  大井 一郎 ,  光永 和宏 ,  金山 明日香
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-507657
公開番号（公開出願番号）：特表2015-522397
出願日： 2013年04月26日
公開日（公表日）： 2015年08月06日
要約：
本発明は、不活性ガス蒸発に基づいて固体粒子を製造する装置及び方法に関する。この方法は、材料の飽和蒸気を含む連続ガス供給流を形成することと、入口を通して反応器チャンバの自由空間領域内に、入口から突出する供給噴流の形態で連続ガス供給流を噴射することと、冷却流体の少なくとも1つの連続噴流を形成し且つ冷却流体の少なくとも1つの噴流を反応チャンバ内に噴射することとを含む。供給噴流は、反応器チャンバの圧力よりも高い0.01×105〜20×105Paの範囲内の圧力で供給流に噴射ノズルを通過させることによって、形成され、この噴射ノズルは、反応器入口として機能し且つ高さAfeed及び幅Bfeedをもつ矩形断面領域のノズル開口部を有し、縦横比Afeed/Bfeed≧2:1であり、高さAが0.1〜40mmの範囲内にある。冷却流体の少なくとも1つの噴流のそれぞれが、冷却流体に噴射ノズルを通過させることによって、形成され、この噴射ノズルは、冷却流体の噴流が供給噴流と30〜150度の間の交角で交差するように、冷却流体の噴流を方向付け、冷却流体の少なくとも1つの噴流のそれぞれは、個別に又は組み合わさって、供給噴流の噴射のためのノズル開口部から所定の距離だけ離れて、供給噴流の実質的に全てのガスと混じり合う。
請求項（抜粋）：
材料の固体粒子を製造する方法において、 前記材料の飽和蒸気を含む連続ガス供給流を形成し、入口を通して反応器チャンバの自由空間領域内に、前記入口から突出する供給噴流の形態で前記連続ガス供給流を噴射するステップと、 冷却流体の少なくとも1つの連続噴流を形成し、前記冷却流体の少なくとも1つの連続噴流を前記反応チャンバ内に噴射するステップと を含み、 前記供給噴流が、前記反応器チャンバの圧力よりも高い0.01×105〜20×105Paの範囲内の圧力で前記供給流に噴射ノズルを通過させることによって、形成され、前記噴射ノズルが、前記反応器入口として機能し、且つ高さAfeed及び幅Bfeedをもつ矩形断面領域のノズル開口部を有し、 縦横比Bfeed/Afeed≧2:1であり、 前記高さAfeedが0.1〜40mmの範囲内にあり、 前記冷却流体の少なくとも1つの噴流のそれぞれが、前記冷却流体に噴射ノズルを通過させることによって、形成され、前記噴射ノズルは、前記冷却流体の噴流が前記供給噴流と30〜150度の間の交角で交差するように、前記冷却流体の噴流を方向付け、前記冷却流体の少なくとも1つの噴流のそれぞれは、個別に又は組み合わさって、前記供給噴流の噴射のための前記ノズル開口部から所定の距離だけ離れて、前記供給噴流の実質的に全てのガスと混じり合う、方法。
IPC (2件)：
B01J 19/00 ,  B22F 9/12
FI (2件)：
B01J19/00 N ,  B22F9/12 Z
Fターム (21件)：
4G075AA27 ,  4G075BA01 ,  4G075BB02 ,  4G075BD12 ,  4G075BD24 ,  4G075CA03 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EC01 ,  4K017AA03 ,  4K017BA01 ,  4K017CA07 ,  4K017CA08 ,  4K017EK08 ,  4K017FA07 ,  4K017FA10 ,  4K017FA11 ,  4K017FA15
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 特開昭62-105920
  • 特開昭62-007431
  • 特開昭63-086834
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審査官引用 (5件)
  • 特開昭62-105920
  • 特開昭62-007431
  • 特開昭63-086834
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