特許
J-GLOBAL ID：201503002725378129

1,6-ヘキサンジオール由来のアジピン酸製造方法

発明者：
ディアス,エリック,エル.

ディアス,エリック,エル. について

, 
マーフィー,ヴィンセント,ジェイ.

マーフィー,ヴィンセント,ジェイ. について

, 
シューメーカー,ジェイムズ,エー.ダブリュー.

シューメーカー,ジェイムズ,エー.ダブリュー. について


出願人/特許権者：
レノヴィア,インコーポレイテッド

レノヴィア,インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-517344
公開番号（公開出願番号）：特表2015-525229
出願日： 2013年06月11日
公開日（公表日）： 2015年09月03日
要約：
プラチナ又は金の少なくとも一つを含有する特定の不均一系触媒存在下で、1,6-ヘキサンジオールを酸素と反応させる化学的触媒反応を採用する、1,6-ヘキサンジオールからアジピン酸への変化を開示する。好ましくは、チタニウム、安定化チタニウム、ジルコニア、安定化ジルコニア、シリカ、又は、それらの混合物からなる群より選ばれる支持体上に、好ましくはジルコニアがタングステンで安定化されたものを支持体上に金属を供する。酸化との反応は、約100°C〜約300°Cの温度、かつ、約50psig〜約2000psigの酸素分圧で行う。
請求項（抜粋）：
1,6-ヘキサンジオールからアジピン酸生成物に化学触媒的に変化させることを含み、その1,6-ヘキサンジオールからアジピン酸生成物に化学触媒的に変化させる工程に、金及び白金からなる群より選ばれる少なくとも一つの金属を含む不均一系触媒の存在下で1,6-ヘキサンジオールと酸素を反応させることを含む、アジピン酸生成物を調製する方法。
IPC (5件)：
C07C 51/235 ,  C07C 55/14 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/52 ,  B01J 35/10
FI (5件)：
C07C51/235 ,  C07C55/14 ,  B01J23/42 Z ,  B01J23/52 Z ,  B01J35/10 301G
Fターム (56件)：
4G169AA03 ,  4G169AA12 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BB06A ,  4G169BC33A ,  4G169BC33B ,  4G169BC60A ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CB07 ,  4G169CB74 ,  4G169DA06 ,  4G169DA07 ,  4G169DA08 ,  4G169EA02Y ,  4G169EA04Y ,  4G169EB01 ,  4G169EB15Y ,  4G169EC02X ,  4G169EC02Y ,  4G169EC03X ,  4G169EC03Y ,  4G169EC14X ,  4G169EC14Y ,  4G169EC15X ,  4G169EC15Y ,  4G169EC16X ,  4G169EC16Y ,  4G169EC17X ,  4G169EC17Y ,  4G169EC22Y ,  4G169EC28 ,  4G169FA02 ,  4G169FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC46 ,  4H006BA05 ,  4H006BA25 ,  4H006BA26 ,  4H006BA55 ,  4H006BA56 ,  4H006BA60 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BE30 ,  4H006BS10 ,  4H039CA65 ,  4H039CC30
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM