特許
J-GLOBAL ID：201503003953711829

基板乾燥装置および基板乾燥方法

発明者：
塙 洋祐

塙 洋祐 について


出願人/特許権者：
株式会社SCREENホールディングス

株式会社SCREENホールディングス について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-035093
公開番号（公開出願番号）：特開2015-162486
出願日： 2014年02月26日
公開日（公表日）： 2015年09月07日
要約：
【課題】表面に凹凸のパターンが形成された基板上の液体を除去して基板を乾燥させるにあたって、パターンの倒壊を防止し、かつ短時間で乾燥を行い基板処理コストを低減することができる基板乾燥装置および基板乾燥方法を提供する。【解決手段】表面に凹凸のパターンが形成され、前工程の液体が付着している基板上に、熱により気体の生成物に分解する乾燥補助物質を溶媒に溶解させた乾燥補助液を供給して、前工程の液体を除去し、前記パターンの凹部内を前記乾燥補助液で満たす。前記乾燥補助液中の溶媒を乾燥させて、前記パターンの凹部内を固体の乾燥補助物質で充填し、熱を与えることで固体の乾燥補助物質が気体の生成物に分解し、基板上から乾燥補助物質が除去される。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
処理液が付着した基板に、熱により気体の生成物に分解する乾燥補助物質を溶媒に溶解させた乾燥補助液を供給する乾燥補助液供給手段と、 前記基板上の前記溶媒を除去し、前記乾燥補助物質を前記基板上に析出させる析出手段と、 前記乾燥補助物質を加熱し、前記基板から前記乾燥補助物質を除去する加熱手段と、 を備える基板乾燥装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  F26B 5/16
FI (5件)：
H01L21/304 651B ,  H01L21/304 648H ,  H01L21/304 651L ,  H01L21/304 651M ,  F26B5/16
Fターム (53件)：
3L113AA01 ,  3L113AB06 ,  3L113AB10 ,  3L113AC10 ,  3L113AC29 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113DA02 ,  3L113DA10 ,  3L113DA24 ,  5F157AA09 ,  5F157AA42 ,  5F157AA46 ,  5F157AA63 ,  5F157AA71 ,  5F157AA73 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB45 ,  5F157AB49 ,  5F157AB90 ,  5F157AC03 ,  5F157AC26 ,  5F157BB22 ,  5F157BB23 ,  5F157BB45 ,  5F157BC01 ,  5F157BC53 ,  5F157BH18 ,  5F157BH21 ,  5F157CA04 ,  5F157CB03 ,  5F157CB11 ,  5F157CB15 ,  5F157CB22 ,  5F157CB28 ,  5F157CE03 ,  5F157CE10 ,  5F157CE23 ,  5F157CE25 ,  5F157CE55 ,  5F157CE56 ,  5F157CF14 ,  5F157CF34 ,  5F157CF40 ,  5F157CF60 ,  5F157DA21 ,  5F157DB33 ,  5F157DC81
引用特許：
審査官引用 (4件)
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