特許
J-GLOBAL ID:201503004788385845

光学異方性層とその製造方法、積層体とその製造方法、偏光板、液晶表示装置及び有機EL表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-114182
公開番号(公開出願番号):特開2015-200861
出願日: 2014年06月02日
公開日(公表日): 2015年11月12日
要約:
【課題】高い秩序性を示す素材としてスメクチック相を示す液晶化合物を用いて光学異方性層を作成する場合の生じる光学異方性層の光学軸が傾くという現象を抑制する。【解決手段】スメクチック相を示す重合性棒状液晶化合物を1種類以上含む重合性組成物がスメクチック相を示した状態で固定化されている光学異方性層であって、前記光学異方性層の屈折率が最大となる方向の、前記光学異方性層面に対する傾きが10°以下である、光学異方性層とその製造方法、積層体とその製造方法、偏光板、液晶表示装置及び有機EL表示装置。【選択図】なし
請求項(抜粋):
スメクチック相を示す重合性棒状液晶化合物を1種類以上含む重合性組成物がスメクチック相を示した状態で固定化されている光学異方性層であって、前記光学異方性層の屈折率が最大となる方向の、前記光学異方性層面に対する傾きが10°以下である、光学異方性層。
IPC (5件):
G02B 5/30 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/02 ,  B32B 7/02 ,  G02F 1/133
FI (6件):
G02B5/30 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/02 ,  B32B7/02 103 ,  G02F1/1335 510 ,  G02F1/13363
Fターム (52件):
2H149AA07 ,  2H149AA18 ,  2H149AB23 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB03 ,  2H149DB04 ,  2H149DB15 ,  2H149FA02Z ,  2H149FA03W ,  2H149FA28Y ,  2H149FA33Y ,  2H149FA52Y ,  2H149FA58Y ,  2H149FB03 ,  2H149FB04 ,  2H149FD05 ,  2H149FD06 ,  2H149FD15 ,  2H149FD22 ,  2H149FD25 ,  2H149FD28 ,  2H149FD47 ,  2H191FA22X ,  2H191FA22Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FB05 ,  2H191FD12 ,  2H191HA15 ,  2H191PA84 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC32 ,  3K107CC43 ,  3K107EE21 ,  3K107EE26 ,  3K107FF06 ,  3K107FF14 ,  3K107FF15 ,  3K107FF18 ,  4F100AJ06 ,  4F100AK21 ,  4F100BA03 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100GB41 ,  4F100JA04A ,  4F100JA11A ,  4F100JA20B ,  4F100JN10C ,  4F100YY00A
引用特許:
審査官引用 (6件)
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