特許
J-GLOBAL ID:201503005114996241
処理液供給装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-053199
公開番号(公開出願番号):特開2015-177090
出願日: 2014年03月17日
公開日(公表日): 2015年10月05日
要約:
【課題】弁体と弁座との接触により発生するパーティクルを抑制できる処理液供給装置を提供する。【解決手段】処理液を貯留する処理液タンク4と、半導体ウェハWに処理液を供給するノズル3と、処理液タンク4からノズル3へ処理液を供給する処理液供給路5と、処理液供給路5に設けられ、処理液タンク4からノズル3へ処理液を移送するポンプ6と、処理液供給路5に設けられた第1バルブ8と、処理液供給路5の第1バルブ8とノズル3との間で分岐されている分岐配管9と、分岐配管9に設けられた第2バルブ10と、第1バルブ8と第2バルブ10の開閉を制御する制御部11と、を備えている。第1バルブ8は閉状態においても完全に閉とならないバルブであるため、弁体85と弁座86との接触により発生するパーティクルは抑制される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板に処理液を供給する処理液供給装置において、 処理液を貯留する処理液タンクと、 基板に処理液を供給する供給手段と、前記処理液タンクから前記供給手段へ処理液を供給する処理液供給路と、 前記処理液供給路に設けられ、前記処理液タンクから前記供給手段へ処理液を移送する移送手段と、 前記処理液供給路に設けられた第1バルブと、 前記処理液供給路の前記第1バルブと前記供給手段との間で分岐されている分岐配管と、 前記分岐配管に設けられた第2バルブと、 前記第1バルブと前記第2バルブの開閉を制御する制御手段と、を備え、前記第1バルブは閉状態においても完全に閉とならないバルブであることを特徴とした処理液供給装置。
IPC (3件):
H01L 21/304
, F16K 31/122
, H01L 21/306
FI (4件):
H01L21/304 648K
, H01L21/304 643A
, F16K31/122
, H01L21/306 R
Fターム (33件):
3H056AA01
, 3H056BB41
, 3H056CB03
, 3H056CD04
, 3H056GG04
, 3H056GG11
, 5F043DD13
, 5F043EE07
, 5F043EE08
, 5F043EE21
, 5F043EE24
, 5F043EE25
, 5F043EE28
, 5F157AB02
, 5F157AB13
, 5F157AB33
, 5F157AB89
, 5F157BB11
, 5F157BC01
, 5F157BC41
, 5F157CC02
, 5F157CE10
, 5F157CF04
, 5F157CF14
, 5F157CF60
, 5F157CF72
, 5F157CF74
, 5F157CF99
, 5F157DA21
, 5F157DB12
, 5F157DB18
, 5F157DB38
, 5F157DC90
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
基板処理液供給機構
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-315524
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-332803
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
処理液の供給装置及び被処理物の処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-015896
出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
前のページに戻る