スピンウェーハ検査システム

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-032427
公開番号（公開出願番号）：特開2015-111148
出願日： 2015年02月23日
公開日（公表日）： 2015年06月18日
要約：

【課題】スピンウェーハ検査システムのための、高周波動的合焦傾斜レーザー照射を生成するための方法および装置を提供する。【解決手段】焦点の移動は、ビーム方向入射角度を変化させて焦点スポットをウェーハ表面上に置くことにより、行われる。単一のモジュールに集約された、自動的ビーム形成(すなわちスポットサイズ)および指向を実施するためのシステムおよび方法が本明細書において開示される。モニタからのフィードバックを用いて、修正を実施するために十分な解像度を有するビーム位置/サイズ/形状および角度を計測するための方法システムも開示される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

ウェーハ表面を検査するスピンウェーハ検査システムであって、高周波オートフォーカス機構を備えるスピンウェーハ検査システム。

IPC (5件)：

G01N 21/956 , G01B 11/00 , G01N 21/84 , G02B 26/08 , H01L 21/66

FI (5件)：

G01N21/956 A , G01B11/00 H , G01N21/84 E , G02B26/08 E , H01L21/66 J

Fターム (54件)：

2F065AA03 , 2F065AA19 , 2F065AA26 , 2F065AA31 , 2F065BB01 , 2F065CC19 , 2F065DD03 , 2F065DD06 , 2F065FF04 , 2F065FF09 , 2F065FF41 , 2F065GG04 , 2F065HH04 , 2F065HH12 , 2F065HH18 , 2F065JJ03 , 2F065JJ22 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065LL10 , 2F065LL12 , 2F065LL46 , 2F065LL61 , 2F065MM16 , 2F065PP12 , 2F065QQ24 , 2F065QQ28 , 2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051BA10 , 2G051BB01 , 2G051BB09 , 2G051BB11 , 2G051BC04 , 2G051BC10 , 2G051CA02 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CC11 , 2H141MA12 , 2H141MB23 , 2H141MC09 , 2H141ME09 , 2H141ME24 , 2H141ME25 , 2H141MG09 , 2H141MZ13 , 4M106AA01 , 4M106BA05 , 4M106CA38 , 4M106DB11 , 4M106DB30

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭62-238445
ウェハ表面欠陥検査装置およびその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-146567 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
改良形試料検査システム
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-512065 出願人：ケーエルエー-テンカーコーポレイション

審査官引用 (1件)

特開昭62-238445

前のページに戻る