特許
J-GLOBAL ID:201503005499339025
半導体装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-035659
公開番号(公開出願番号):特開2015-162510
出願日: 2014年02月26日
公開日(公表日): 2015年09月07日
要約:
【課題】ヘテロ接合を有するノーマリオフ型の半導体装置において、ゲートリーク電流が抑えられた半導体装置を提供すること。【解決手段】 半導体装置1は、ヘテロ接合を有する半導体積層体10、半導体積層体10上に設けられているドレイン電極22、半導体積層体10上に設けられているとともにドレイン電極22から離れて配置されているソース電極26、半導体積層体10上に設けられているとともにドレイン電極22とソース電極26の間に配置されているp型半導体層24、及び、p型半導体層24の一方の端部に電気的に接続するゲート電極28を備える。p型半導体層24の上面の少なくとも一部は、ゲート電極28と接触しない。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ヘテロ接合を有する半導体積層体と、
前記半導体積層体上に設けられているドレイン電極と、
前記半導体積層体上に設けられており、前記ドレイン電極から離れて配置されているソース電極と、
前記半導体積層体上に設けられており、前記ドレイン電極と前記ソース電極の間に配置されているp型半導体層と、
前記p型半導体層の一方の端部に電気的に接続するゲート電極と、を備え、
前記p型半導体層の上面の少なくとも一部は、前記ゲート電極と接触しないように構成されている半導体装置。
IPC (9件):
H01L 21/337
, H01L 27/098
, H01L 29/808
, H01L 21/338
, H01L 29/778
, H01L 29/812
, H01L 21/28
, H01L 21/285
, H01L 29/41
FI (5件):
H01L29/80 C
, H01L29/80 H
, H01L21/28 301B
, H01L21/285 S
, H01L29/44 L
Fターム (31件):
4M104AA04
, 4M104AA07
, 4M104BB02
, 4M104BB05
, 4M104BB06
, 4M104BB07
, 4M104BB14
, 4M104BB18
, 4M104BB40
, 4M104CC01
, 4M104DD34
, 4M104DD37
, 4M104FF01
, 4M104GG12
, 5F102FA01
, 5F102GB01
, 5F102GC01
, 5F102GD04
, 5F102GJ02
, 5F102GJ03
, 5F102GJ04
, 5F102GJ10
, 5F102GK04
, 5F102GL04
, 5F102GM04
, 5F102GM08
, 5F102GQ01
, 5F102GR12
, 5F102GS07
, 5F102GS09
, 5F102GV03
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-349246
出願人:日本電気株式会社
審査官引用 (1件)
-
半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-349246
出願人:日本電気株式会社
前のページに戻る