特許
J-GLOBAL ID:201503006149307100

対象のモニタリングと表面処理のためのシステムおよび方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 瀧野 秀雄 ,  川崎 隆夫 ,  瀧野 文雄 ,  津田 俊明 ,  鳥野 正司
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-521766
公開番号(公開出願番号):特表2015-530888
出願日: 2013年07月10日
公開日(公表日): 2015年10月29日
要約:
システムおよび方法が、利用可能なセンサとドレッシングに組み込まれた互換性のあるマトリックス材料を含む装置の設計及び組み立てのために提供される。センサは、分子酸素、二酸化炭素、窒素酸化物、血漿および組織中に溶解した検体、および水素イオンのような検体を検出することができ、マトリックスは、少なくとも部分的に検体に対する透過性を有する。装置は、センサが検体の存在下で励起されると、検出可能な信号を発する。
請求項(抜粋):
分子酸素、二酸化炭素、窒素酸化物、血漿および組織中に溶解した検体、および水素イオンからなる群から選ばれる検体の濃度を検出するセンサ、 前記センサと互換性のマトリックスであり、前記マトリックスの少なくとも一部が前記検体に、少なくともアクセス可能か透過性があるマトリックス、及び 前記マトリックスと前記センサを含むドレッシングを含む装置であって、 前記装置が、燐光、蛍光、及び吸収の少なくとも一つを含む電磁場の非弾性散乱を調整することにより、前記センサによって検出される前記検体の濃度に応答して信号を発することを特徴とする装置。
IPC (5件):
A61B 10/00 ,  G01N 21/64 ,  A61B 5/145 ,  A61M 27/00 ,  A61M 37/00
FI (6件):
A61B10/00 E ,  G01N21/64 Z ,  G01N21/64 F ,  A61B5/14 322 ,  A61M27/00 ,  A61M37/00
Fターム (20件):
2G043AA01 ,  2G043AA03 ,  2G043BA09 ,  2G043BA12 ,  2G043BA13 ,  2G043BA16 ,  2G043EA01 ,  2G043EA02 ,  2G043FA01 ,  2G043FA03 ,  2G043FA05 ,  2G043KA02 ,  2G043KA05 ,  2G043LA03 ,  4C038KK01 ,  4C038KL05 ,  4C038KL07 ,  4C167AA72 ,  4C167CC01 ,  4C167GG16
引用特許:
審査官引用 (6件)
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