特許
J-GLOBAL ID：201503006593230580

近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、カメラモジュールおよびその製造方法、緩衝層形成用組成物、ならびに、積層体およびその製造方法

発明者：
奈良 裕樹

奈良 裕樹 について

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朴 星戊

朴 星戊 について

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江副 利秀

江副 利秀 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-093720
公開番号（公開出願番号）：特開2015-210478
出願日： 2014年04月30日
公開日（公表日）： 2015年11月24日
要約：
【課題】高湿度環境下でも耐湿性が高い近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、カメラモジュールおよびその製造方法、緩衝層形成用組成物、ならびに、積層体およびその製造方法を提供する。【解決手段】近赤外線吸収剤と有機化合物を含有する近赤外線吸収層と、緩衝層と、無機化合物を含有する防湿層とを上記順に有する、近赤外線カットフィルタ。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
近赤外線吸収剤と有機化合物を含有する近赤外線吸収層と、緩衝層と、無機化合物を含有する防湿層とを前記順に有する、近赤外線カットフィルタ。
IPC (6件)：
G02B 5/22 ,  B32B 7/02 ,  H01L 27/14 ,  C08F 20/10 ,  B32B 27/18 ,  B32B 9/00
FI (6件)：
G02B5/22 ,  B32B7/02 103 ,  H01L27/14 D ,  C08F20/10 ,  B32B27/18 Z ,  B32B9/00 A
Fターム (51件)：
2H148CA04 ,  2H148CA09 ,  2H148CA12 ,  2H148CA17 ,  2H148CA21 ,  4F100AA20D ,  4F100AH00B ,  4F100AH08B ,  4F100AK01C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100CA07B ,  4F100EH46B ,  4F100EH46C ,  4F100EH66D ,  4F100JA13D ,  4F100JD04D ,  4F100JK07C ,  4F100JN01C ,  4F100JN01D ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AQ08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA13Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA21P ,  4J100BA34P ,  4J100BA51P ,  4J100BA77Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100DA36 ,  4J100JA32 ,  4M118AA08 ,  4M118AB01 ,  4M118BA06 ,  4M118GC08 ,  4M118GC11 ,  4M118GD03 ,  4M118GD04 ,  4M118HA02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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