近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-236342
公開番号（公開出願番号）：特開2014-041318
出願日： 2012年10月26日
公開日（公表日）： 2014年03月06日
要約：

【課題】耐光性に優れ、欠陥の発生を抑制した近赤外線吸収性組成物の提供。【解決手段】近赤外線吸収領域に極大吸収波長を有する銅錯体と界面活性剤とを含有する、近赤外線吸収性組成物。さらには界面活性剤が、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤の少なくとも一方であり、フルオロ脂肪族基を有する重合体である。あるいは銅錯体が、リン酸エステル銅化合物で、銅錯体の配合量が、前記赤外線吸収性組成物の全固形分の30〜90質量%である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

近赤外線吸収領域に極大吸収波長を有する銅錯体と界面活性剤とを含有する、近赤外線吸収性組成物。

IPC (4件)：

G02B 5/22 , G02B 5/28 , H01L 27/14 , C09K 3/00

FI (4件)：

G02B5/22 , G02B5/28 , H01L27/14 D , C09K3/00 105

Fターム (31件)：

2H048CA04 , 2H048CA12 , 2H048CA17 , 2H048CA23 , 2H048GA14 , 2H048GA24 , 2H048GA33 , 2H148CA04 , 2H148CA12 , 2H148CA17 , 2H148CA23 , 2H148GA14 , 2H148GA24 , 2H148GA33 , 4M118AA08 , 4M118AB01 , 4M118BA10 , 4M118BA14 , 4M118CA02 , 4M118CA32 , 4M118FA06 , 4M118GB04 , 4M118GC08 , 4M118GC11 , 4M118GC17 , 4M118GD02 , 4M118GD04 , 4M118HA20 , 4M118HA30 , 4M118HA31 , 4M118HA33

引用特許：

審査官引用 (13件)

ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-302205 出願人：富士写真フイルム株式会社, オリン・マイクロエレクトロニツク・ケミカルズ・インコーポレイテツド
近赤外線吸収剤及びその製造方法、並びに光学材料
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-254286 出願人：株式会社クレハ
近赤外吸収材用感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-003233 出願人：住友化学株式会社

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