特許
J-GLOBAL ID：201503006627362325
インプリント用下層膜組成物およびこれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-193857
公開番号（公開出願番号）：特開2013-093552
特許番号：特許第5767615号
出願日： 2012年09月04日
公開日（公表日）： 2013年05月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】化合物(A)と溶剤(B)とを含有し、
前記化合物(A)として
基材と共有結合および/または相互作用可能な基(Ka)を有する化合物(Aa)と、インプリント用硬化性組成物と共有結合および/または相互作用可能な基(Kb)を有する化合物(Ab)を含むか、
基材と共有結合および/または相互作用可能な基(Ka)と、インプリント用硬化性組成物と共有結合および/または相互作用可能な基(Kb)を有する化合物(Aab)を含み、かつ、前記化合物(A)の、(式1)で算出できる大西パラメータ(Z)が3.8以上であり、かつ、分子量が3000以上であるインプリント用下層膜組成物であって、
前記組成物中の溶剤を除く全成分中70質量%以上が化合物(A)であり、
前記組成物中の90質量%以上が溶剤(B)であることを特徴とするインプリント用下層膜組成物。
(式1) 大西パラメータ=(全原子数)/(炭素数-酸素数)
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B29C 59/02 ( 200 6.01)
, C08F 299/00 ( 200 6.01)
H01L 21/30 502 D
, B29C 59/02 ZNM Z
, C08F 299/00
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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