高密度高硬度のグラフェン多孔質炭素材料、その製造方法並びにその使用

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：村山靖彦 , 実広信哉 , 阿部達彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-523381
公開番号（公開出願番号）：特表2015-529620
出願日： 2013年05月31日
公開日（公表日）： 2015年10月08日
要約：

高密度高硬度のグラフェン多孔質炭素材料、その製造方法並びにその応用方式を提供することを課題とする。本発明に係るグラフェン多孔質炭素材料の製造方法は、グラフェン基成分又はグラフェンベース成分と補助成分との混合物を溶剤の中に入れて、分散方法を利用して、前記グラフェン多孔質炭素材料を製造することに必要な出発ゾルを調製する第一工程と、第一工程で得られた出発ゾルを反応器の中に置いて、20°C〜500°Cまで加熱して、前記出発ゾルを0.1〜100時間反応させて、所望のグラフェン基ゲルを調製し得る第二工程と、0°C〜200°Cの温度で前記グラフェン基ゲルを乾燥させて、グラフェン多孔質炭素材料を得る第三工程と、第三工程で得られたグラフェン多孔質炭素材料を酸欠雰囲気において、100°C〜3600°Cまで加熱して、0.1〜100時間熱処理し、又は/及び活性化反応法を採用して、前記グラフェン多孔質炭素材料を200°C〜2000°Cの温度下で0.1〜50時間を反応させる第四工程と、を備える。従来の技術に比べて、本発明の製造方法で得られたグラフェン多孔質炭素材料は、高密度、高硬度で、且つ孔隙が豊富であり、比表面積が大きく、孔の構造が安定している等の利点を備える。

請求項（抜粋）：

グラフェンベース成分又はグラフェンベース成分と補助成分との混合物を溶剤の中に入れて、分散方法を利用して、グラフェン多孔質炭素材料を製造することに必要な出発ゾルを調製する第一工程と、前記第一工程で得られた出発ゾルを反応器の中に置いて、20°C〜500°Cまで加熱して、前記出発ゾルを0.1時間〜100時間反応させて、所望のグラフェンベースゲルを調製する第二工程と、 0°C〜200°Cの温度で前記グラフェンベースゲルを乾燥させて、グラフェン多孔質炭素材料を得る第三工程と、を備えることを特徴とするグラフェン多孔質炭素材料の製造方法。

IPC (7件)：

C01B 31/02 , B01J 23/44 , B01J 37/10 , B01J 37/08 , B01J 35/10 , H01M 4/587 , H01G 11/36

FI (7件)：

C01B31/02 101Z , B01J23/44 Z , B01J37/10 , B01J37/08 , B01J35/10 301Z , H01M4/587 , H01G11/36

Fターム (74件)：

4G146AA01 , 4G146AA06 , 4G146AB07 , 4G146AC03A , 4G146AC04A , 4G146AC07A , 4G146AC07B , 4G146AC08A , 4G146AC08B , 4G146AC09A , 4G146AC09B , 4G146AC10A , 4G146AC10B , 4G146AC21A , 4G146AC21B , 4G146AC22A , 4G146AC23A , 4G146AC23B , 4G146AC28B , 4G146AD11 , 4G146AD20 , 4G146AD23 , 4G146AD24 , 4G146AD25 , 4G146AD26 , 4G146AD28 , 4G146AD35 , 4G146BD02 , 4G146BD10 , 4G146CB08 , 4G146CB10 , 4G146CB11 , 4G146CB12 , 4G146CB13 , 4G146CB32 , 4G146CB33 , 4G146CB34 , 4G146CB35 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169AA12 , 4G169BA08B , 4G169BB02B , 4G169BC72B , 4G169CB59 , 4G169DA05 , 4G169EC04Y , 4G169ED03 , 4G169FA01 , 4G169FB10 , 4G169FB29 , 4G169FB57 , 4G169FB77 , 4G169FC07 , 5E078AA14 , 5E078BA15 , 5E078BA67 , 5E078BA68 , 5E078BA73 , 5E078BB02 , 5E078BB07 , 5E078ZA02 , 5H018BB06 , 5H018BB17 , 5H018EE06 , 5H018HH02 , 5H018HH05 , 5H018HH08 , 5H018HH10 , 5H050BA17 , 5H050CA17 , 5H050CB07 , 5H050EA24 , 5H050FA02

引用特許：

審査官引用 (1件)

溶液中の単層および多層グラフェンの安定な分散系
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-120481 出願人：ベレノス・クリーン・パワー・ホールディング・アーゲー

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