溶液中の単層および多層グラフェンの安定な分散系

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：山川政樹 , 山川茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-120481
公開番号（公開出願番号）：特開2010-275186
出願日： 2010年05月26日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：

【課題】溶液中で安定なグラフェンのコロイド分散系、特に、分散剤を必要としないコロイドのグラフェン分散系を生成するための方法を提供すること。【解決手段】コロイドのグラフェン分散系を生成するための方法であって、(i)分散媒中にグラファイト酸化物を分散させることによって、コロイドのグラフェン酸化物またはマルチグラフェン酸化物分散系を形成するステップと、(ii)分散系中のグラフェン酸化物またはマルチグラフェン酸化物を熱還元するステップとを含む方法が開示されている。出発分散系を調製するために使用される方法に応じて、グラフェンまたはマルチグラフェン分散系が得られ、これは、さらに処理することによって、グラファイトより大きい面間距離を有するマルチグラフェンにすることができる。そのような分散系およびマルチグラフェンは、例えば、充電式リチウムイオン電池の製造において適切な材料である。

請求項（抜粋）：

コロイドのグラフェン分散系またはマルチグラフェン分散系を生成するための方法であって、 (i)分散媒中にグラファイト酸化物を分散させることによって、コロイドのグラフェン酸化物分散系またはマルチグラフェン酸化物分散系を形成するステップと (ii)分散系中の前記グラフェン酸化物またはマルチグラフェン酸化物を熱還元するステップとを含む方法。

IPC (8件)：

C01B 31/04 , H01B 1/04 , H01B 1/24 , H01B 13/00 , H01M 4/587 , H01M 4/139 , B01J 13/00 , C01B 31/02

FI (8件)：

C01B31/04 101Z , H01B1/04 , H01B1/24 Z , H01B13/00 Z , H01M4/58 103 , H01M4/02 111 , B01J13/00 B , C01B31/02 101Z

Fターム (48件)：

4G065AA01 , 4G065AA08 , 4G065AB16X , 4G065BA15 , 4G065BB01 , 4G065BB06 , 4G065CA11 , 4G065DA09 , 4G065EA01 , 4G065EA03 , 4G065EA05 , 4G065EA06 , 4G065FA01 , 4G065FA03 , 4G146AA02 , 4G146AA15 , 4G146AD25 , 4G146BA08 , 4G146BA20 , 4G146BA42 , 4G146BA49 , 4G146BB01 , 4G146BB14 , 4G146BC02 , 4G146BC04 , 4G146BC19 , 4G146BC28 , 4G146BC32A , 4G146BC32B , 4G146CA15 , 4G146CA20 , 5G301BA02 , 5G301BE01 , 5G301DA19 , 5G301DA42 , 5G301DD02 , 5H050AA19 , 5H050BA17 , 5H050CB07 , 5H050DA04 , 5H050DA11 , 5H050DA18 , 5H050FA17 , 5H050GA02 , 5H050GA10 , 5H050GA15 , 5H050GA22 , 5H050GA27

引用特許：

審査官引用 (3件)

炭素からなる骨格を持つ薄膜状粒子の還元方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-254023 出願人：三菱瓦斯化学株式会社
炭素構造体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-096815 出願人：日立粉末冶金株式会社, 日産自動車株式会社
電極用炭素材料
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-061301 出願人：三菱化学株式会社

引用文献：

審査官引用 (3件)

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