特許

J-GLOBAL ID：201503007538721473

ペルヒドロポリシラザン、およびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法

発明者： 岡 村 聡 也 ,  神 田 崇 ,  櫻 井 一 成 ,  バートラム、ベルント、バーニッケル ,  青 木 宏 幸
出願人/特許権者： メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社
代理人 (3件)： 勝沼 宏仁 ,  中村 行孝 ,  前川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-254456
公開番号（公開出願番号）：特開2015-115369
出願日： 2013年12月09日
公開日（公表日）： 2015年06月22日
要約：

【課題】欠陥の少ないシリカ質膜を形成することができるペルヒドロポリシラザンとそれを含む硬化用組成物の提供。【解決手段】本発明によれば、重量平均分子量が5,000以上17,000以下のペルヒドロポリシラザンであって、前記ペルヒドロポリシラザンをキシロールに溶解させた17重量%溶液の1H-NMRを測定した時、キシロールの芳香族環水素の量を基準としたSiH1,2の量の比が0.235以下、NHの量の比が0.055以下であることを特徴とするペルヒドロポリシラザンと、それを含む硬化用組成物が提供される。本発明は、その硬化用組成物を基材上に塗布し、加熱することを含むシリカ質膜の形成方法も提供するものである。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

重量平均分子量が5,000以上17,000以下のペルヒドロポリシラザンであって、前記ペルヒドロポリシラザンをキシロールに溶解させた17重量%溶液の1H-NMRを測定した時、キシロールの芳香族環水素の量を基準とした、SiH1,2の量の比が0.235以下、NHの量の比が0.055以下であることを特徴とするペルヒドロポリシラザン。

IPC (1件)：

H01L 21/316

FI (1件)：

H01L21/316 G

Fターム (6件)：

5F058BC02 ,  5F058BC08 ,  5F058BF46 ,  5F058BH03 ,  5F058BJ02 ,  5F058BJ06

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平1-138107
  
• ポリシラザンを含むコーティング組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-001883   出願人：AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社

審査官引用 (2件)

• 特開平1-138107
  
• ポリシラザンを含むコーティング組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-001883   出願人：AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社