ポリシラザンを含むコーティング組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：勝沼宏仁 , 中村行孝 , 横田修孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-001883
公開番号（公開出願番号）：特開2011-142207
出願日： 2010年01月07日
公開日（公表日）： 2011年07月21日
要約：

【課題】埋設性と塗布性とに優れ、すぐれた膜物性を有するシリカ質膜を形成することができるコーティング組成物とそれを用いたシリカ質膜の形成方法の提供。【解決手段】ペルヒドロポリシラザンと溶媒とを含んでなるコーティング組成物であって、前記ペルヒドロポリシラザンの分子量分布曲線が、分子量800〜2,500の範囲と、分子量3,000〜8,000の範囲とにそれぞれ極大を有し、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比Mw/Mnが6〜12である、コーティング組成物。このコーティング組成物ギャップを有する基板上に塗布し、1000°C以下で加熱することにより、ギャップ深部まで埋設されたシリカ質膜を形成させることができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ペルヒドロポリシラザンと溶媒とを含んでなるコーティング組成物であって、前記ペルヒドロポリシラザンの分子量分布曲線が、分子量800〜2,500の範囲と、分子量3,000〜8,000の範囲とにそれぞれ極大を有し、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比Mw/Mnが6〜12であることを特徴とする、コーティング組成物。

IPC (6件)：

H01L 21/316 , H01L 21/76 , C08G 77/62 , C09D 183/16 , C09D 5/25 , C09D 7/12

FI (8件)：

H01L21/316 G , H01L21/316 B , H01L21/316 P , H01L21/76 L , C08G77/62 , C09D183/16 , C09D5/25 , C09D7/12

Fターム (41件)：

4J038DL171 , 4J038JA01 , 4J038JA02 , 4J038JA03 , 4J038JA24 , 4J038JA32 , 4J038KA06 , 4J038MA06 , 4J038MA14 , 4J038NA21 , 4J038PB09 , 4J246AA10 , 4J246AB01 , 4J246CA01X , 4J246CA010 , 4J246FA151 , 4J246FA451 , 4J246GA01 , 4J246GA02 , 4J246GB04 , 4J246GC60 , 4J246HA22 , 5F032AA34 , 5F032AA49 , 5F032AA50 , 5F032AA66 , 5F032AA69 , 5F032DA09 , 5F032DA23 , 5F058BA02 , 5F058BA09 , 5F058BC02 , 5F058BC04 , 5F058BC05 , 5F058BD04 , 5F058BD06 , 5F058BD07 , 5F058BF46 , 5F058BH03 , 5F058BJ01 , 5F058BJ06

引用特許：

出願人引用 (5件)

絶縁膜形成用塗布液、それを用いた絶縁膜およびそれに用いる化合物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-231970 出願人：株式会社ADEKA
スピンオンガラス組成物及びこれを用いたシリコン酸化膜形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-298169 出願人：三星電子株式会社
特開平3-232709

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