蛍光X線分析装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：喜多俊文 , 江口裕之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-051901
公開番号（公開出願番号）：特開2013-185986
特許番号：特許第5811352号
出願日： 2012年03月08日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 X線を試料の斜め下方から照射し、試料台と試料の間にスペーサを配置することにより一次X線光路長を変化させることが可能な蛍光X線分析装置において、前記スペーサの種類に対応した一次X線の試料への照射位置を記憶する手段と、前記スペーサの種類をユーザーが指定するための入力手段と、前記試料の被分析面を撮像する撮像手段と、現在指定されているスペーサの種類に対応した一次X線の照射位置を示すマーカを前記撮像手段によって撮像された試料画像上に重畳して表示する表示手段を備えたことを特徴とする蛍光X線分析装置。

IPC (1件)：