特許
J-GLOBAL ID:201503010237017950

光学装置の製造方法及び光学装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 長谷川 芳樹 ,  小松 秀輝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-023247
公開番号(公開出願番号):特開2015-166861
出願日: 2015年02月09日
公開日(公表日): 2015年09月24日
要約:
【課題】任意の波長を有する入射光に対して偏光透過率を最大化し得る光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】光入射部2と、光入射部2からの入射光L1を受光する受光面11が入射光L1の進行方向と入射角度φをもって交差するように配置された偏光素子3とを備える光学装置1を製造する。光学装置1の製造方法は、入射光L1の波長λ及び配列周期Pを利用して、偏光素子3に発生する表面プラズモンの励起条件を得る励起条件取得工程と、励起条件を利用して、入射光L1の進行方向と偏光素子3の受光面11とがなす入射角度φを得る角度取得工程と、受光面11に対して入射光L1が入射角度φで入射するように、光入射部2と偏光素子3とを配置する配置工程と、を有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
光入射部と、前記光入射部からの入射光を受光する受光面が前記入射光の進行方向と所定角度をもって交差するように配置された偏光素子とを備える光学装置の製造方法において、 前記偏光素子は、前記入射光に対して透明な基板と、前記基板上において所定の配列周期に基づいて形成された凸部と、前記凸部の上面に形成された第1の金属ワイヤ部と、前記凸部の間から露出した前記基板の表面に形成された第2の金属ワイヤ部と、を備え、 前記入射光の波長及び前記配列周期を利用して、前記偏光素子に発生する表面プラズモンの励起条件を得る励起条件取得工程と、 前記励起条件を利用して、前記入射光の進行方向と前記偏光素子の前記受光面とがなす前記所定角度を得る角度取得工程と、 前記受光面に対して前記入射光が前記所定角度で入射するように、前記光入射部と前記偏光素子とを配置する配置工程と、を有する、光学装置の製造方法。
IPC (2件):
G02B 5/30 ,  G02F 1/133
FI (2件):
G02B5/30 ,  G02F1/1335 510
Fターム (8件):
2H149AB04 ,  2H149BA04 ,  2H149BA23 ,  2H149BB28 ,  2H149FA41W ,  2H191FA28X ,  2H191FA28Z ,  2H191LA31
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 偏光波長分離素子
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-312416   出願人:コニカミノルタホールディングス株式会社

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