特許
J-GLOBAL ID：201503014561028404
単量体、高分子化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-177800
公開番号（公開出願番号）：特開2014-034667
特許番号：特許第5737242号
出願日： 2012年08月10日
公開日（公表日）： 2014年02月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記一般式(1)で示される単量体。
(式中、R1、R2はそれぞれ独立に、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示し、R1、R2が互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。R3、R4、R5はそれぞれ独立に水素原子、メチル基又はエチル基を示すが、R3、R4、R5の内2つ以上が同時に水素原子になることはない。R6は水素原子又はメチル基を示す。X1はエーテル基、エステル基、ラクトン環又はヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、又は炭素数6〜10のアリーレン基を示す。X2はメチレン基又はエチレン基を示す。k1は0又は1を示す。)
IPC (5件)：
C08F 220/18 ( 200 6.01)
, G03F 7/32 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
C08F 220/18
, G03F 7/32
, G03F 7/039 601
, G03F 7/038 601
, H01L 21/30 502 R
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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