特許
J-GLOBAL ID：201503014801227885

レーザ合成光学装置

発明者：
関 俊秀

関 俊秀 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について


代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-026069
公開番号（公開出願番号）：特開2015-153889
出願日： 2014年02月14日
公開日（公表日）： 2015年08月24日
要約：
【課題】本発明は、簡易な構成で複数のレーザからのレーザ光を合成することが可能なレーザ合成光学装置の提供を目的とする。【解決手段】本発明に係るレーザ合成光学装置100は、複数の半導体レーザアレイ10a,10b,10cと、複数の半導体レーザアレイ10a,10b,10cの少なくとも1つの半導体レーザアレイ10b,10cから射出されるレーザ光束を反射する反射素子11b,11cと、を備え、複数の半導体レーザアレイ10a,10b,10cの各々から射出されるレーザ光束が1つの集光点14に集光されるに際して、少なくとも1つの半導体レーザアレイ10b,10cから射出されるレーザ光束は反射素子11b,11cで反射された後、集光点14に集光されることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の半導体レーザアレイと、 前記複数の半導体レーザアレイの少なくとも1つの前記半導体レーザアレイから射出されるレーザ光束を反射する反射素子と、 を備え、 前記複数の半導体レーザアレイの各々から射出されるレーザ光束が1つの集光点に集光されるに際して、前記少なくとも1つの半導体レーザアレイから射出されるレーザ光束は前記反射素子で反射された後、前記集光点に集光されることを特徴とする、 レーザ合成光学装置。
IPC (1件)：
H01S 5/022
FI (1件)：
H01S5/022
Fターム (12件)：
5F173MA10 ,  5F173MB01 ,  5F173MC02 ,  5F173MC03 ,  5F173ME22 ,  5F173ME44 ,  5F173ME72 ,  5F173ME83 ,  5F173ME85 ,  5F173MF03 ,  5F173MF28 ,  5F173MF39
引用特許：
審査官引用 (11件)
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